kla檢測原理:KLA的半導體檢測帝國
KLA的半導體檢測帝國
2万字长文:从KLA看量测设备的护城河
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原理:通过光学成像原理对相邻的晶圆进行比对,可以在短时间内进行大范围检测。光学图形圆片缺陷检测设备采用高精度光学检测技术,对圆片上的nm/μm尺度的 ...
KLA Corporation
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KLA
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KLA-Tencor表⽰示,IC製造商通常會使⽤用現有的最具成本效益的解決⽅方案。292X 寬頻電漿晶圓檢測系統通常. 對最細微的缺陷具有最佳靈敏度,並且有能⼒力捕捉到所有缺陷 ...
先進缺陷檢測與製程監控因應10 奈米良率挑戰
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都能實現良率關鍵缺陷的檢測與 ...
光學+電子束新一代晶圓檢測系統讓缺陷無所遁形
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KLA的392x系列和295x系列寬頻電漿晶圓缺陷檢測系統支援晶圓級缺陷發現、良率學習和在線監測,適用於≤7nm邏輯和先進的記憶體設計節點。寬頻電漿照明技術可 ...
工學院專班半導體材料與製程設備學程
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KLA 檢驗機台(圖3-2 & 圖3-4)為亮區模式(bright field)下. 檢驗,使用die 與die 之間的灰階差的晶片影像比對,取其影. 像灰階差值來決定缺陷影像與位置,中間die 會與左右 ...
缺陷检测与复检
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KLA 的缺陷检测和复检系统涵盖芯片制造环境中的所有良率应用,其中包括来料工艺工具鉴定、晶圆鉴定、研发以及工具、工艺和生产线监控。有图案和无图案晶圆缺陷检测和复检 ...
量测
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量测. KLA 的量测系统可满足一系列芯片和基板制造应用的需求,其中包括设计可制造性验证、新工艺表征和大批量制造工艺监控。通过精确测量图案尺寸、薄膜厚度、层间 ...