deposition化學:物理氣相沉積
物理氣相沉積
化學氣相沉積
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化學氣相沉積(英語:chemical vapor deposition,簡稱CVD)是一種用來產生純度高、效能好的固態材料的化學技術。半導體產業使用此技術來成長薄膜。典型的CVD製程是將 ...
化學氣相沉積法
https://highscope.ch.ntu.edu.t
化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition) ... 化學氣相沉積法,是一種化學上常用的合成過程,其目標是生產高效能且高純度的一些化學材料。例如像是人工鑽石的合成,以及 ...
化學氣相沉積
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化學氣相沉積(英語:chemical vapor deposition,簡稱CVD)是一種用來產生純度高、效能好的固態材料的化學技術。半導體產業使用此技術來成長薄膜。
化學氣相沉積法
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化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition;CVD)是半導體工業中應用最廣泛、用來沉積多種物料的技術,包括大部分絕緣物料、大多數金屬物料和金屬合金 ...
有機金屬化學氣相沉積法
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有機金屬化學氣相沉積法(MOCVD, Metal-organic Chemical Vapor Deposition),是在基板上成長半導體薄膜的一種方法。 其他類似的名稱如:MOVPE (Metal-organic ...
物理氣相沈積法(Physical Vapor Deposition,PVD)
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從蒸發源到基片的距離應小於蒸氣分子在殘餘氣體中的平均自由程,以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1~0.2 eV。 蒸發方法 ...
化學氣相沉積反應器之數值模擬
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化學氣相沉積製程技術(Chemical Vapor Deposition,簡稱CVD),. 顧名思義,乃是利用化學反應的方式,使得氣態反應物在晶圓表面反. 應生成固態生成物,並 ...
化學氣相沉積Chemical Vapor Deposition
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化學氣相沉積(CVD)是一種真空沉積方法,用於生產高質量、高性能的固體材料。該工藝常用於半導體工業中的薄膜生產。在典型的CVD 中,晶片(基板)暴露於一種或多種 ...