去光阻劑 成分:光阻劑
光阻劑
特殊有機廢溶劑純化再利用之研究
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乾膜光阻去除
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光阻剝離劑(PR Stripper)有四種主要化學成份,其個別成份之功能和注意事項如下:. 項目, 主要成份, 功 能. 1, 強鹼性化學品:KOH或NaOH, 打斷光阻之主鏈交結(Cross-linking) ...
Photoresist stripper(光阻剝離劑
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NMP,DMSO,MEA三成分為傳統去光阻液所採用,因為每家公司使用狀況不一樣,有的須添加金屬腐蝕抑制劑(Inhibitor),以防止受到鹼性溶劑腐蝕,有的則modify components,選擇或添加 ...
光阻劑
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如248nm光阻劑常用聚對羥基苯乙烯及其衍生物為光阻劑主體材料,193nm光阻劑為聚酯環族丙烯酸酯及其共聚物,EUV光阻劑常用聚酯衍生物和分子玻璃單組分材料等為主體材料。除 ...
負型用去光阻液
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NS-5000系列是以高沸點之有機溶劑為配方基礎所開發之去光阻液,兩者均具有不易揮發、不會結冰、高閃火點等優異特性,使用上安全無虞,為無毒性之量產用藥劑,成份中均不含 ...
半導體光阻剝離PR Strip 製程介紹
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光阻材料是有機物一般以碳、氫、氧化合物為主體,一般都用硫酸根或氫氧根離子破壞碳氫氧鍵,達到光阻去除的目的,傳統光阻剝離劑多是採用DMSO (二甲基亞碸) ...
光阻劑
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光阻劑應用的配方成分20 多年以來,SACHEM 一直是用於電子應用的顯影劑電子配方成分的領先供應商。大部分顯影劑已使用四甲基氫氧化銨(TMAH) 和四丁基氫氧化銨(TBAH) ...
默克推出全新環保光阻去除有機溶劑
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常見的應用包括金屬剝離、RDL(重分佈製程)、電鍍銅、以及一般的正負型光阻。 除了不含NMP,也不含二甲基乙酰胺(DMAC)、二甲基亞碸(DMSO)或四甲基氫 ...