CD SEM：捷測精密科技股份有限公司
捷測精密科技股份有限公司
4. CD
https://www.hitachi-hightech.c
CD-SEM is a dedicated system for measuring the dimensions of the fine patterns on a semiconductor wafer.
CD
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Wafer surface inspection system to detect various types of small defects on non-patterned wafer of next generation device.
Critical Dimension SEM (CD
https://spectral.se
A Critical Dimension SEM (CD-SEM) is a dedicated metrology system for measuring the dimensions of the fine patterns formed on a semiconductor wafer.
In
https://www.tsri.org.tw
In-line SEM主要用途為線上產品線寬量測，又稱CD-SEM，其特點為WAFER無須經過切片或鍍金屬膜等預處理步驟，即可觀察及量測光阻、絕緣層及金屬層等之圖案，本量測設備屬於非 ...
VeritySEM 10 關鍵尺寸(CD) 量測
https://www.appliedmaterials.c
在半導體元件圖案測量方面，CD-SEM (臨界線寬掃描式電子顯微鏡) 常被稱為是「晶圓廠的標準」，因為這套系統能產生最精準的次奈米測量值。在微影成像機（lithography ...
全球半導體市場最新發展趨勢
http://www.cs.nccu.edu.tw
微距-掃瞄式電子顯微鏡(Critical Dimonsion-Scanning Electron Mcroscopcs； CD-SEM)是以電子束來對晶圓表面狀況加以顯像與量測， 故可提供遠高於一般顯微鏡之解析度。 在 ...
檢測10奈米以下半導體CD
https://www.mem.com.tw
多年來，業界一直使用微距量測掃描式電子顯微鏡(CD-SEM)來進行量測，此種顯微鏡會射出電子束，與要掃描的材料作用，然後回傳訊號，再由量測機台比對運算 ...
臨界尺寸量測方法最佳化之研究
https://ir.nctu.edu.tw
在SEM 有限產能考量下，一般晶圓廠CD 量測. 點數會少於10 點/批，故本研究列舉的各種常見的CD 量測方法皆小於10. 點/批。影響ADI CD 要素如下：. 11. Page 23. (1)光罩( ...