cdsem半導體：VeritySEM 10 關鍵尺寸(CD) 量測
VeritySEM 10 關鍵尺寸(CD) 量測
CD
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半導體製造装置. 半導體製造装置 半導體製造装置. CD-SEM & Defect Inspection. CD-SEM & Defect Inspection · Inspection Solution · Metrology Data Solution. Dry Etch ...
CN103591911B
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关键尺寸扫描电子显微镜（CDSEM）是一种在半导体制程中用于测量晶圆上图案的关键尺寸（CD）的仪器，其工作原理是：从电子枪照射出的电子束通过聚光透镜汇聚，穿过开孔（ ...
全球半導體市場最新發展趨勢
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微距-掃瞄式電子顯微鏡(Critical Dimonsion-Scanning Electron Mcroscopcs； CD-SEM)是以電子束來對晶圓表面狀況加以顯像與量測， 故可提供遠高於一般顯微鏡之解析度。 在 ...
應用材料公司最新電子束量測系統提升高數值孔徑極紫外光 ...
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【圖說】應用材料公司的VeritySEM 10系統，專門用來精確量測由EUV微影技術所定義的半導體 ... CD-SEM） 對其進行次奈米級的量測作業，並透過這些量測作業 ...
捷測精密科技股份有限公司
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捷測精密科技股份有限公司於2015年成立，為半導體製造設備及零件的供應商，其主要提供半導體產業之客戶相關設備維護與支援等專業服務。特別是我們專精於CD-SEM的設備上 ...
檢測10奈米以下半導體CD
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在量測技術、多重微影技術與材料的改良下，半導體裝置的3D記憶體與臨界尺寸(CD)能夠沿用到小於10奈米製程。在10奈米製程上，元件的複雜度不斷提高，使得 ...
第一节：（4）逻辑工艺线上量测简介原创
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本篇论文的目的是探讨并研究针对目前半导体製程过程中,包含涂佈光阻(Coating),曝光(Exposure),与显影(Developer),烘烤(Baking)等过程中,所产生的Defect ...
臨界尺寸量測方法最佳化之研究
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第二章、文獻回顧：包含半導體製程介紹、黃光微影製程原理介紹、臨界. 尺寸(Critical Dimension, CD)量測原理與控制方式、先進製程控制. 系統、多變量分析理論、多準則決策 ...