duv浸潤式：陸DUV機台也斷供台IC設計挾先進製程迎轉單
陸DUV機台也斷供台IC設計挾先進製程迎轉單
ASML
https://www.asml.com
我們的DUV深紫外光微影系統是當前半導體產業用於量產晶片的主力。ASML提供浸潤式和乾式微影解決方案，幫助晶片製造商量產各種節點和技術製程。 ASML的浸潤式和乾式微影 ...
ASML浸润式DUV光刻，EUV光刻机，正式断供！
https://ee.ofweek.com
ArF对应的是130-65nm；而ArFi是ArF的改进版，也称之为浸润式DUV光刻机，对应的是65-7nm；EUV是极紫外线光刻机，对应的是7nm以下。
DUV光刻機從7nm再衝5nm？浸潤光刻之父：行！但成本極高
https://www.chinatimes.com
不過，林本堅表示，依靠現有的DUV光刻機（浸潤式）製造出5nm晶片依然是可行的，但是至少需要進行4重曝光。不幸的是，這種工藝的缺點是不僅耗時，而且 ...
【美股新聞】ASML 浸潤式DUV對中出口許可被撤
https://magnifier.cmoney.tw
半導體設備製造商ASML被荷蘭政府禁止向中國出口浸潤式深紫外光(DUV)光刻機。ASML表示，其在2023年運送NXT:2050i和NXT:2100i光刻機的許可證「最近被 ...
台積電不能沒有它！艾司摩爾崛起的秘密
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DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme ... 台積電當初力推浸潤式光刻設備機技術，其實當時Nikon、佳能、英特爾對外界的態度 ...
小辭典》什麼是DUV設備？
https://today.line.me
... 經濟部今將赴立法院報告，揭露ASML十二吋浸潤式DUV(深紫外光)設備光罩傳輸模組已全數移至台灣研發、組裝及出貨。(資料照). 微影設備是利用 ...
林本堅以浸潤式微影技術開創產業未來
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1987年，他建議微影技術要再發展下去，就必須從乾式轉向浸潤式。2002年，他提出與其在技術極限的157奈米波長繼續鑽下去，倒不如回頭善用193奈米波長的光，用水把有效的 ...
極紫外光微影製程
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早期市面上DUV微影製程機台的供應商以Canon以及Nikon為主, 浸潤式微影（英語：Immersion lithography）出現後DUV微影製程機台改由艾司摩爾所獨霸。 ... EUV光罩與傳統光罩也 ...
瞄準ASML 3款最新浸潤式DUV！
https://magnifier.cmoney.tw
據消息人士表示，禁運範圍將擴大至ASML 最新的三款浸潤式深紫外光設備(Immersion DUV)，包括「TWINSCAN NXT:2000i」、「NXT:2050i」和「NXT:2100i」。而 ...