銅蝕刻液：鹼性蝕刻液
鹼性蝕刻液
Cu etchant (銅蝕刻液)
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首頁 產品與服務介紹 Cu etchant (銅蝕刻液). 顯影液. TMAH (氫氧化四甲基銨) NaOH (氫氧化鈉) KOH (氫氧化鉀). 蝕刻液. Al etchant (鋁蝕刻液) Mo etchant (鉬蝕刻液) ...
蝕刻液
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品名, 簡介, 特性. SCE 系列, 適用於晶圓製程之酸性銅蝕刻液。 1.不含雙氧水，蝕刻壽命長 2. 蝕刻速率可接受客製化調整. STE 系列, 適用於晶圓製程之酸性鈦蝕刻液。 1.
蝕刻液
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蝕刻液，是一種銅版畫雕刻用原料。通過侵蝕材料的特性來進行雕刻的一種液體。從理論上講，凡能氧化銅而生成可溶性銅鹽的試劑，都可以用來蝕刻敷銅箔板，但權衡對抗蝕層 ...
酸性蝕刻液循環再生系統
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酸性蝕刻製程，是印刷電路板業(PCB)進行內外層蝕刻最常用使用的製程，普遍性採用氯化銅做為蝕刻藥液的主體。其原理是使用二價銅的氧化能力，將銅箔基板上的金屬銅蝕刻入藥 ...
金屬蝕刻液(Metal Etchant)
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標準鉻蝕刻液(硝酸鈰銨類). 銅, Cu Etch-520, 銅-鉬蝕刻. 銅, Cu Etch-385, 標準銅蝕刻液(鹽酸類). 銅, Cu Etch-786, UBM 銅蝕刻. 銅, Cu Etch-816, UBM 銅蝕刻. 銅, Cu ...
銅在酸性溶液之蝕刻研究
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本實驗針對銅溼式蝕刻之蝕刻液分為三個部分討論：第一部分為氯化銅-鹽酸-氯化銨系統研究，第二部分為硫酸-雙氧水與添加劑之作用，最後一個部分為低蝕刻速率之硫酸- ...
銅蝕刻液
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添鴻科技提供多款高品質的銅蝕刻液，滿足一般RDL、Copper Pillar Bump、LF Bump製程需求。對於半導體先進封裝製程也提供Fine Line RDL、Microbump、Cu/Ni/Au RDL、Ni/Au ...
銅鉬蝕刻液
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銅/鉬蝕刻液 · 雙氧水型環保蝕刻液 · 穩定性佳，可提供優異的銅負載量(>10Kppm) · 蝕刻均勻性好、角度大可用在高精細導線製程 ...