canon光刻機:Canon推新半導體曝光機宣稱價格會比ASML少一個零
Canon推新半導體曝光機宣稱價格會比ASML少一個零
ASML怕了嗎?Canon的新晶片製造機價格比EUV少一位數
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佳能(Canon)公司計劃將最新推出的晶片製造設備的價格,訂在比艾司摩爾(ASML)最先進的極紫外光(EUV)曝光機少一位數,以搶攻尖端晶片設備市場。
Canon Semiconductor Equipment Taiwan
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佳能提供各種製程解析度從350nm 到90nm以下不同所需的產品設備, 這些設備都可以支援到300mm大小的晶圓. 佳能的液晶顯示器製造設備, 反射式對準成像曝光機(MPA), 藉由大型的 ...
佳能光刻機CANON FPA3000系列
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CANON光刻曝光機主要原理是利用紫外線通過光罩、底片等圖案模版,並搭配顯影劑使用,去除晶圓表面的光阻,以形成積體電路圖案。其實像幻燈機一樣簡單,就是把光透過帶 ...
佳能想用NIL技術挑戰EUV ,台積電、聯電、光罩將有機會受惠
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Canon 為奈米壓印微影技術研發出最佳的光阻劑材料,以及用於壓印的奈米級對準技術,還實現清潔半導體的微粒控制技術,相較於已商用化的EUV 技術,NIL 技術 ...
光刻機不是唯一出路,Canon 表示納米壓印技術,可生產2nm ...
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Canon 半導體設備業務部長岩本和德表示,通過改進光罩,該技術甚至可以生產2nm 製程的處理器,這有望縮小Canon 與ASML 的技術差距。納米壓印設備的成本和 ...
日佳能奈米壓印設備將出貨繞過光刻機直上2nm開啟 ...
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日本光刻機大廠佳能(Canon)去年正式發佈不使用光刻機的奈米壓印技術(NIL)晶片製造設備,預計為小型半導體製造商能以較低成本生產先進製程晶片開闢 ...
繞過EUV技術改用奈米印刷日本佳能開賣5nm晶片製造設備
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日系光刻機大廠佳能(Canon)近日通過新聞稿宣佈,已經開始銷售基於「奈米印刷」(Nanoprinted lithography)技術的晶片生產設備FPA-1200NZ2C, ...
賣相機鏡頭的CANON 挑戰ASML,推納米壓印光刻機
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這款最新的「納米壓印光刻」系統被佳能視為對荷蘭公司ASML 的挑戰,後者主導了極紫外(EUV)光刻機領域。ASML 的技術被廣泛應用於製造5 納米及以下的 ...