atomic layer deposition中文：原子層沉積

ALD

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原子層沉積(Atomic Layer Deposition，ALD)最早稱為原子層磊晶(Atomic Layer Epitaxy，ALE)，ALD也是一種化學氣相沉積技術(CVD)，與傳統CVD的差異在於：ALD是將一個傳統CVD ...

Atomic Layer Deposition (ALD) Archives

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結合化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)技術，這些領先市場的系統可為先進的鎢金屬化應用沉積出所需之高度均勻一致的(conformal)薄膜。 先進封裝, 互連, 先進記憶體, ...

原子層沉積技術之發展與應用

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Atomic layer deposition (ALD) is one of the most important semiconductor processes for deposition of nanoscale ultrathin films. ALD offers many ...

原子層沉積系統

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原子層沉積（Atomic Layer Deposition, ALD）是可以被用來替換CVD、電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)和濺鍍技術的新製程。原子層沉積也是化學氣相沉積技術(CVD)的一種，其 ...

原子層沉積系統(Atomic Layer Deposition

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原子層沉積（Atomic Layer Deposition, ALD）係藉由表面獨特自我侷限反應來成長高階梯覆蓋與大面積均勻性之薄膜。可用於奈米級或原子級薄膜沉積，調控超薄 ...

原子層沉積系統原理及其應用

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Atomic layer deposition (ALD) has attracted a lot of attention recently for its excellent deposition abilities, such as almost 100% step coverage, accurate ...

從ALD 2023看原子層沈積前驅物開發現況

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研討會演講內容可分為原子層沉積(Atomic Layer Deposition; ALD)與原子層蝕刻(Atomic Layer Etching; ALE)兩大主軸，包括ALD前驅物開發、ALD製程與應用、 ...

越薄越好，3D薄膜製程大挑戰：淺談原子層沈積技術

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