製程氣體英文：電子廠常用的英文單字...

電子廠常用的英文單字...

2008年5月1日—電子廠常用的英文單字......製程冷卻水(ProcessCoolingWater)FFU=>風車...???RAISEDFLOOR=高架地板.Steam=蒸氣.Specialgas特殊氣體.Scrubber ...。其他文章還包含有：「制程氣體管英文」、「化學氣相沉積」、「半導體廠的各製程所需使用的特氣」、「工業氣體」、「特殊氣體、雷射氣體、工業氣體、醫療氣體、高壓氣體設備及容器」、「电子行业英文專有名詞介紹」、「蝕刻(Etching)」、「電子廠常用的英文單字...」...

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制程氣體管英文

https://tw.ichacha.net

制程氣體管英文 · 制: make; manufacture · 程: rule; regulation · 氣體: gas; gaseous fluid · 管: pipe; tube.

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化學氣相沉積

https://zh.wikipedia.org

化學氣相沉積（英語：chemical vapor deposition，簡稱CVD）是一種用來產生純度高、效能好的固態材料的化學技術。半導體產業使用此技術來成長薄膜。典型的CVD製程是將 ...

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半導體廠的各製程所需使用的特氣

https://www.fsair.com.tw

(1) 惰性氣體(Inert Gas)的He, SF6,CO2, CF4, C2F6, C4H8及CH3F等。 (2) 燃燒性氣體(Flammable Gas)的SiH4,Si2H6, B2H6, PH3, SiH2Cl2, CH3, C2H2及CO等。

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工業氣體

https://zh.wikipedia.org

工業氣體是為了在產業中使用而製造的氣態物質。常見的工業氣體有氮、氧、二氧化碳、氬、氫及乙炔，也有許多的其他氣體或是氣體混合物，以氣體鋼瓶的型式提供。

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特殊氣體、雷射氣體、工業氣體、醫療氣體、高壓氣體設備及容器

https://www.ctgas.com.tw

製程名稱. 使用氣體 ; 氧化(Oxidation). SiH4 、Si2 H6 、ClF3 、PH3 、SiH2 Cl ; 擴散(Diffusion). AsH3 、AsCl3 、PH3 、PCl3 、POCl3 、B2 H6 、 BCl3 、BBr3 、SiCl4 、 ...

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电子行业英文專有名詞介紹

http://www.iqiti.cn

製程氣體（洩漏有爆炸危險） NH3 氨……製程氣體N2O 笑氣……製程氣體PH3 磷化氫……製程氣體N2 氮氣……製程氣體，常用為破真空Vent或吹乾的媒介H2 氫氣……

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蝕刻(Etching)

http://homepage.ntu.edu.tw

表面物質去除化的製程: 化學蝕刻、物理蝕刻、複合蝕刻 ... 蝕刻速率是測量在蝕刻製程中物質被移除的速. 率有多快 ... 副產物為氣體、液體或可溶於蝕刻劑的固體. ▫. 三基本 ...

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電子廠常用的英文單字...

https://alextolin.pixnet.net

Evaporation or sputtering 【蒸鍍或濺鍍】：這兩個都是物理氣相沉積(PVD)的製程技術之一。 Layout of IC diode 【積體電路二 ...

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高密度電漿化學氣相沉積系統

https://khvic.nsysu.edu.tw

英文名稱：High Density Plasma Chemical Vapor Deposition ... 製程溫度最高可至300℃; 真空度(base pressure)約為5E-6 ... 製程中如發生問題請通知相關人員(例如製程氣體壓力 ...

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