euv曝光機原理：全球瘋搶EUV 曝光機！究竟是摩爾定律的救命曙光

EUV是個什麼酷東西？ — 決定未來半導體先進製程的關鍵技術

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... EUV 光刻機，三星為什麼落後了？」， ... 機，讓10奈米以下的電晶體不會出現繞射的現象、導致電路的失效，而最近艾司摩爾又開發出可商用的1 奈米製程曝光機 ...

半導體產業不可或缺的曝光機，是「這些企業」的心血結晶！

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從原理上看，曝光機的工作原理，就是讓光穿過光掩模，然後通過一系列透鏡將其縮小，最終落在覆蓋有曝光膠的基板上。由於光掩模，曝光膠的某些部分被光照射 ...

挽救摩爾定律：ASML 極紫外光（EUV）微影技術量產的開發歷程

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EUV 光的產生是用二氧化碳雷射每秒5 萬次去轟擊液態錫滴。出來的EUV 光通過一個直徑為0.65 公尺的橢球反光鏡送進微影機台裡頭。錫滴位於橢球反光 ...

摩爾定律的華麗謝幕：EUV微影機

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此機的概念是由中研院院士林本堅任職於台積電所提出的，原理上當光通過液體介質的時候，其速度會變慢，也就是波長會變短。因此若將被曝光的晶圓浸泡在液體 ...

整理包／英特爾拿下全球首台高數值孔徑EUV設備一 ...

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極紫外光微影製程

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EUV微影製程選擇第二中作法,將光源波長降低13.5奈米來提升電路圖案解析度，由於EUV波長太短,非常容易被大氣吸收,因此此道製程需要在真空環境中完成。目前EUV微影製程機 ...

藉助CO 2 高功率雷射系統和錫產生EUV輻射

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製造晶片時TRUMPF高功率雷射放大器發揮關鍵作用：因為藉助它可生成發光等離子體，從而提供極紫外光(EUV) 曝光晶圓。TRUMPF與全球最大的光刻系統製造商ASML以及光學元件製造 ...

解讀《晶片戰爭》：世界上最複雜的機器「EUV曝光機」，為什麼 ...

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NVIDIA就是受惠於台積電的無晶圓廠模式，NVIDIA只需要設計晶片，台積電就會製造出來。（這樣想想NVIDIA真像是第一批拿到大祕寶的人）。 超複雜的機器：EUV ...