OBIRCH vs EMMI：Emission Microscope (EMMI)
Emission Microscope (EMMI)
EMMIconsistsofahighly-sensitiveCCDcapable...EMMIisusedextensivelynowadaysfordetectingleakage...OpticalBeamInducedResistanceChange(OBIRCH) ...。其他文章還包含有：「ElectricalFailureAnalysis(EFA)」、「EMMIObirch测试」、「EMMI和OBIRCH傻傻分不清？」、「PhotoEmissionMicroscopy(EMMIOBIRCH)」、「电性热点定位分析InGaAs，OBIRCH，EMMI有什么区别？」、「芯片失效分析中OBIRCH」、「芯片漏电点定位及分析（EMMI...
查看更多 離開網站
Electrical Failure Analysis (EFA)
https://www.matek.com
The Infrared Optical Beam Induced Resistance Change（IR OBIRCH ... Nowadays IR-OBIRCH is an indispensable important FA technology applied in IC development.
EMMIObirch测试
https://www.migelab.com
Obirch和EMMI是同一个设备的不同模式。在金属覆盖区域有热点的话，Obirch也可以检测出来。两种都可以进行正面和背面检测，可以在大范围内准确并迅速定位集成电路中的 ...
EMMI和OBIRCH傻傻分不清？
https://zhuanlan.zhihu.com
光诱导电阻变化（OBIRCH，Optical Beam Induced Resistance Change），激光作用于半导体材料时，会产生两种效应，一种是热效应，另一种是光生载流子效应。
Photo Emission Microscopy (EMMI OBIRCH)
https://icfailureanalysis.com
OBRICH, InGaAs EMMI, and EMMI are three techniques used to locate an emission site or a hot spot generated by excessive heat on a sample.
电性热点定位分析InGaAs，OBIRCH，EMMI有什么区别？
http://www.enrlb.com
电性热点定位分析InGaAs、电性热点定位分析OBIRCH、电性热点定位分析EMMI有什么异同，工作原理有什么异同。
芯片失效分析中OBIRCH
https://zhuanlan.zhihu.com
光束诱导电阻变化（OBIRCH）功能与微光显微镜（EMMI）常见集成在一个检测系统，合称PEM（Photo Emission Microscope），两者互为补充，能够很好的应对绝大多数失效模式。
芯片漏电点定位及分析（EMMIOBIRCH，显微光热分布
https://www.gmatg.com
设备原理 .EMMI. 微光显微镜（Emission Microscope, EMMI）是利用高增益相机/探测器来检测由某些半导体器件缺陷/失效发出的微量光子的一种设备。
雷射光束電阻異常偵測(OBIRCH)
https://www.istgroup.com
雷射光束電阻異常偵測(Optical Beam Induced Resistance Change，以下簡稱OBIRCH)，以雷射光在IC表面進行掃描，在IC功能測試期間，OBIRCH 利用雷射掃瞄IC 內部連接位置 ...