tft五道製程:TFT基本架構及原理
TFT基本架構及原理
TFT LCD金屬層變更之研究
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本研究主要在探討TFT LCD Array 5道製程中,針對第1道Gate金屬層的AlNd材質變更為AlNiLa之為影響。實驗材料選用無鹼的基板(尺寸:730×920 mm;由康寧提供), ...
TFT
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TFT-LCD open cell制程一般分为前段、中段和后段制程,前段制程主要是进行TFT玻璃的制作,这与半导体制程非常相似;中段制程主要指将TFT玻璃与彩色滤光片 ...
TFT
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道( P為5 價) , 作為歐姆接觸(Ohmic contact)。 (3) ... TFT-LCD Array五道光罩製程. 光罩簡稱英文全名形成之 ... MASK 5-PE 畫素電極ITO 光機電奈米量測系統科技整合研討 ...
TFT元件結構及原理
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MASK 5-PE. 畫素電極. ITO. MASK 3-SD. Source/Drain 電極. Cr ... Mask 5:PE (畫素電極形成). 1. 成膜前洗淨. 島田理化 ... TFT元件製程結束, 後流至ARRAY TESTER. A'. A. A.
光電半導體製程技術光電產品製程TFT LCD
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細說TFT
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非晶矽薄膜電晶體液晶顯示器製造
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目前使用在TFT-LCD array process 微影製程的. 塗覆(coating) 光阻方式分成狹縫塗覆後加上旋轉. (slit and spin) 及單獨旋轉式(spin) 兩種。 Slit and spin:先用slit ...