微影製程缺陷：讓摩爾定律成真的關鍵： 微影技術— 影響七十億以上個未來

ArF光阻在半導體微影製程之缺陷硏究

https://ir.lib.nycu.edu.tw

實驗結果發現，將小孔徑光阻的濾心預溼加上兩段式的過濾程式及新的光阻溶劑可有效的控制光阻缺陷。比較傳統的顯影方式(顯影頭靜止噴灑+晶片微轉)與(顯影頭掃描噴灑+晶片 ...

光學微影的限制

https://www.tsia.org.tw

半導體微影製程設備新興技術發展與產業觀察

https://www.moea.gov.tw

微影製程近年來隨著電晶體密度提高，結構細緻化、複雜化，使用的曝光機、光罩和相對應的量檢測設備，包括缺陷檢測、疊對量測設備等更加重要。此外 ...

微影

https://zh.wikipedia.org

微影製程（英語：photolithography 或optical lithography，中國大陸稱為光刻工藝）是半導體元件製造製程中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何 ...

微影製程再進化！複雜電路的祕密

https://scitechvista.nat.gov.t

... 製程包括微影、蝕刻、沉積等等。而微影貫穿整個IC製程，是極為關鍵的製程技術。 微影製程是將電路圖案，透過已刻好圖案的光罩及光阻，「轉印」到晶圓上的過程。舉例來 ...

積體電路微影製程缺陷因素對線寬影響之研究

https://ndltd.ncl.edu.tw

本篇論文的目的是探討並研究針對目前半導體製程過程中，包含塗佈光阻(Coating)，曝光(Exposure)，與顯影(Developer)，烘烤(Baking)等過程中，所產生的Defect種類， ...

針對SE EUV圖案化的缺陷檢測策略和製程區隔

https://www.eettaiwan.com

了解製程改善策略所造成的影響變得更具挑戰性，在開發提升良率的製程解決方案時，需要採取新的EUV微影缺陷檢測技術和方法，以及明智的製程區隔。 在第二 ...