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陸 EUV 光刻 機

「陸 EUV 光刻 機」文章包含有:「不甩日半導出口禁令陸首台國產28nm浸潤式光刻機年底交付」、「光刻機訂單陸占3成ASML」、「華為突圍秀EUV光刻技術|陸股透視」、「速度震惊世界!国产EUV光刻机取得重大突破,外媒」、「陸晶片自主夢難成真?陸專家揭致命傷:還缺少這些關鍵」、「陸晶片製程設備急起直追美還能領先多久?」、「陸狂掃ASMLDUV光刻機Q2佔比增200%」

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不甩日半導出口禁令陸首台國產28nm浸潤式光刻機年底交付
不甩日半導出口禁令陸首台國產28nm浸潤式光刻機年底交付

https://www.chinatimes.com

陸媒指出,雖然中國將因此而增加高端光刻機國產化的難度,但近日半導體界傳出消息稱,上海微電子預計在2023年底能將交付首台國產28奈米浸潤式光刻機。

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光刻機訂單陸占3成ASML
光刻機訂單陸占3成ASML

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全球最頂尖的光刻製造商荷蘭ASML公司是全球唯一能量產EUV光刻機的廠商,同時也是成熟工藝所需的DUV光刻機的主要供應商,該公司雖然在美國壓力下停止了 ...

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華為突圍秀EUV光刻技術| 陸股透視
華為突圍秀EUV光刻技術| 陸股透視

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EUV光刻機採用10-14奈米極紫外光做光源的光刻技術設備,是目前市場上技術水平最高的光刻機產品。但由於美國禁令,大陸廠商僅能購買DUV光刻機,但無法取得 ...

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速度震惊世界!国产EUV光刻机取得重大突破,外媒
速度震惊世界!国产EUV光刻机取得重大突破,外媒

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陸晶片自主夢難成真?陸專家揭致命傷:還缺少這些關鍵
陸晶片自主夢難成真?陸專家揭致命傷:還缺少這些關鍵

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他強調,沒有高端的EUV(極紫外光)光刻機,只是造不出最先進的晶片,但如果沒有EDA設計軟件,所有的晶片設計公司都得停工。

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陸晶片製程設備急起直追美還能領先多久?
陸晶片製程設備急起直追美還能領先多久?

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據中國媒體報導,上海微電子設備(SMEE)已經完善了28奈米深紫外(DUV)光刻機,預計將於今年年底開始使用該技術生產晶片。

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陸狂掃ASML DUV光刻機Q2佔比增200%
陸狂掃ASML DUV光刻機Q2佔比增200%

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報導說,按設備技術劃分,2季度浸沒式DUV光刻機的營收占比為49%,比一季度增長19個百分點;EUV設備的營收占比為37%,相比今年一季度下降17個百分點。 為何 ...