1nm製程

台積電以2D材料突破挺進1nm

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台積電(TSMC)的1nm晶片製程技術正逐漸成形。在今夏公佈其與美國麻省理工學院(MIT)和國立台灣大學(NTU)合作的結果後，台積電據傳正計劃在桃園打造1nm晶 ...

台積電以2D材料突破挺進1nm

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今年5月，台積電宣佈與MIT和NTU合作開發1nm製程節點的關鍵特性，但稍早也曾為此澄清說，這些突破性進展並不一定能很快地用於商業化晶片生產。 在MIT、台灣 ...

摩爾定律不死!! Intel 衝擊1nm 製程，並會採用新一代EUV 光刻機

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據IMEC 之前公布的晶片製程規劃藍圖來看，2nm 製程之後是14A，亦即1.4 nm 製程，預計2026 年推出，再往後就是A10 製程，亦即1 nm，2028 年推出。 Intel 要 ...

正式官宣！英特爾發表1nm晶片製程技術，堆疊式CFET電晶體 ...

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台積電1nm 已經定案，新廠將落戶新竹，實力遙遙領先

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TSMC 在晶片製程上不斷向前發展，可以說勢不可擋，尤其是近年來可以看出7nm 、 5nm工藝對TSMC 而言，已經是非常簡單的一道工藝。而1nm 的突破，雖然效能 ...

1nm以下關鍵技術Intel研發2D晶片製程

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10nm製程以下製造難度加大，未來10年還要進入1nm製程以下節點，迫切需要更先進的技術。 於此領域，Intel率先在22nm製程進入FinFET電晶體時代，於20A ...

台積電1nm 以下製程取得重大突破，已發表於Nature

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台積電於17日聯合台大、麻省理工宣佈，在1nm 以下晶片方面取得重大進展，研究成果已發表於Nature。 ... 該研究發現，利用半金屬鉍Bi 作為二維材料的接觸電極 ...

摩爾定律不死Intel衝擊1nm製程採用下一代EUV曝光機

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Intel要研發的未來兩代製程應該亦為1.4nm、1nm等級的，具體的命名仍要等官方確定，畢竟時間尚早。 2nm之後的製程還要升級裝置，目前的EUV曝光機屆時效率亦 ...

ASML下代EUV曝光機年底問世：1nm製程半導體工廠必備

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按照2025年出貨的時間點來看，台積電、英特爾、三星的2nm等級技術是趕不上的，最快也要到1.4nm工藝才能用上NA=0.55曝光機，未來生產1nm製程則是不可少的 ...

摩爾定律將延續，imec 制定1 奈米以下製程技術與晶片設計 ...

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相信曝光工具將把摩爾定律擴展到1 奈米節點以下。 Luc van den Hove 強調，為了邁向更先進製程，需開發新器件架構及推動標準單元微縮。FinFET 成為從10 奈 ...