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ASML怕了嗎？Canon的新晶片製造機價格比EUV少一位數
https://udn.com
佳能（Canon）公司計劃將最新推出的晶片製造設備的價格，訂在比艾司摩爾（ASML）最先進的極紫外光（EUV）曝光機少一位數，以搶攻尖端晶片設備市場。
Canon Semiconductor Equipment Taiwan
https://setw.canon
佳能提供各種製程解析度從350nm 到90nm以下不同所需的產品設備, 這些設備都可以支援到300mm大小的晶圓. 佳能的液晶顯示器製造設備, 反射式對準成像曝光機(MPA), 藉由大型的 ...
Canon推新半導體曝光機宣稱價格會比ASML少一個零
https://money.udn.com
佳能（Canon）計劃將新推出的晶片製造設備的價格，訂在比艾司摩爾（ASML）最先進的EUV曝光機少一位數，以搶攻尖端晶片設備市場。
佳能光刻機CANON FPA3000系列
https://www.mptkk.com.tw
CANON光刻曝光機主要原理是利用紫外線通過光罩、底片等圖案模版，並搭配顯影劑使用，去除晶圓表面的光阻，以形成積體電路圖案。其實像幻燈機一樣簡單，就是把光透過帶 ...
佳能想用NIL技術挑戰EUV ，台積電、聯電、光罩將有機會受惠
https://m.cnyes.com
Canon 為奈米壓印微影技術研發出最佳的光阻劑材料，以及用於壓印的奈米級對準技術，還實現清潔半導體的微粒控制技術，相較於已商用化的EUV 技術，NIL 技術 ...
光刻機不是唯一出路，Canon 表示納米壓印技術，可生產2nm ...
https://qooah.com
Canon 半導體設備業務部長岩本和德表示，通過改進光罩，該技術甚至可以生產2nm 製程的處理器，這有望縮小Canon 與ASML 的技術差距。納米壓印設備的成本和 ...
日佳能奈米壓印設備將出貨繞過光刻機直上2nm開啟 ...
https://www.chinatimes.com
日本光刻機大廠佳能（Canon）去年正式發佈不使用光刻機的奈米壓印技術（NIL）晶片製造設備，預計為小型半導體製造商能以較低成本生產先進製程晶片開闢 ...
繞過EUV技術改用奈米印刷日本佳能開賣5nm晶片製造設備
https://tw.stock.yahoo.com
日系光刻機大廠佳能（Canon）近日通過新聞稿宣佈，已經開始銷售基於「奈米印刷」（Nanoprinted lithography）技術的晶片生產設備FPA-1200NZ2C， ...
賣相機鏡頭的CANON 挑戰ASML，推納米壓印光刻機
https://hk.xfastest.com
這款最新的「納米壓印光刻」系統被佳能視為對荷蘭公司ASML 的挑戰，後者主導了極紫外（EUV）光刻機領域。ASML 的技術被廣泛應用於製造5 納米及以下的 ...