deposition化學
「deposition化學」熱門搜尋資訊
「deposition化學」文章包含有：「化學氣相沉積」、「化學氣相沉積」、「化學氣相沉積ChemicalVaporDeposition」、「化學氣相沉積反應器之數值模擬」、「化學氣相沉積法」、「化學氣相沉積法」、「有機金屬化學氣相沉積法」、「物理氣相沈積法（PhysicalVaporDeposition，PVD）」、「物理氣相沉積」
查看更多
化學氣相沉積
https://zh.wikipedia.org
化學氣相沉積（英語：chemical vapor deposition，簡稱CVD）是一種用來產生純度高、效能好的固態材料的化學技術。半導體產業使用此技術來成長薄膜。典型的CVD製程是將 ...
化學氣相沉積
https://zh.wikipedia.org
化學氣相沉積（英語：chemical vapor deposition，簡稱CVD）是一種用來產生純度高、效能好的固態材料的化學技術。半導體產業使用此技術來成長薄膜。
化學氣相沉積Chemical Vapor Deposition
https://academic-accelerator.c
化學氣相沉積（CVD）是一種真空沉積方法，用於生產高質量、高性能的固體材料。該工藝常用於半導體工業中的薄膜生產。在典型的CVD 中，晶片（基板）暴露於一種或多種 ...
化學氣相沉積反應器之數值模擬
https://ir.nctu.edu.tw
化學氣相沉積製程技術(Chemical Vapor Deposition，簡稱CVD)，. 顧名思義，乃是利用化學反應的方式，使得氣態反應物在晶圓表面反. 應生成固態生成物，並 ...
化學氣相沉積法
https://www.digitimes.com.tw
化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition；CVD)是半導體工業中應用最廣泛、用來沉積多種物料的技術，包括大部分絕緣物料、大多數金屬物料和金屬合金 ...
化學氣相沉積法
https://highscope.ch.ntu.edu.t
化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition) ... 化學氣相沉積法，是一種化學上常用的合成過程，其目標是生產高效能且高純度的一些化學材料。例如像是人工鑽石的合成，以及 ...
有機金屬化學氣相沉積法
https://zh.wikipedia.org
有機金屬化學氣相沉積法(MOCVD, Metal-organic Chemical Vapor Deposition)，是在基板上成長半導體薄膜的一種方法。 其他類似的名稱如：MOVPE (Metal-organic ...
物理氣相沈積法（Physical Vapor Deposition，PVD）
https://highscope.ch.ntu.edu.t
從蒸發源到基片的距離應小於蒸氣分子在殘餘氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2 eV。 蒸發方法 ...
物理氣相沉積
https://zh.wikipedia.org
物理氣相沉積（英語：Physical vapor deposition，PVD）是一種工業製造上的工藝，屬於鍍膜技術的一種，是主要利用物理方式來加熱或激發出材料過程來沉積薄膜的技術，即 ...