duv製程
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DUV和EUV光刻机的区别在哪？
https://m.zhitongcaijing.com
报告集中回答三个问题：. 1、DUV为何能够继续供应? 2、而EUV为何被美国控制? 3、DUV和EUV将成为制程世代分水岭的背后. 一、DUV技术由日本和荷兰独立发展：.
全方位微影技術介紹
https://www.asml.com
DUV深紫外光微影技術. 我們的DUV深紫外光微影系統是當前半導體產業用於量產晶片的主力。ASML提供浸潤式和乾式微影解決方案，幫助晶片製造商量產各種節點和技術製程。
全球瘋搶EUV 曝光機！究竟是摩爾定律的救命曙光
https://www.charmingscitech.na
DUV 浸潤式微影技術可以做到的光學解析度，極限大約是40 奈米的結構，若搭配使用雙重曝光，約可以完成20 奈米製程， 在理想狀況下，四重曝光可以達到5 奈 ...
半導體DUV製程
https://ndltd.ncl.edu.tw
半導體DUV製程--產能提昇與微距績效保持方法之研究 · Method to Improve the Throughput and Retain the CD Performance for DUV Process · 劉大昌 · Liu Ta Chung · 碩士.
台積電不能沒有它！艾司摩爾崛起的秘密
https://www.iqvalue.com
從製程範圍來看，DUV基本上只能做到25nm，Intel只能做到了10nm，但是卻無法達到10nm以下。只有EUV能滿足10nm以下的晶圓製造，並且還可以向5nm、3nm、2nm繼續延伸。
小辭典》什麼是DUV設備？
https://ec.ltn.com.tw
目前以DUV設備應用最廣、需求也最大；僅台積電、三星等少數具7奈米及其以下製程能力業者，才會使用EUV。 請繼續往下閱讀... 光罩傳輸模組則是DUV設備的 ...
採購EUV 已無望，中國半導體企業擴大採購DUV 提升成熟製程
https://finance.technews.tw
與10 奈米以下先進製程的EUV 曝光設備不同，DUV 曝光設備為成熟製程使用，主要生產汽車電源管理晶片(PMIC) 和微控制器(MCU) 等不需先進製程的產品。然而 ...
極紫外光微影製程
https://zh.wikipedia.org
... 7奈米以前的製程使用248或193奈米波長的光做為光源來進行微影。早期市面上DUV微影製程機台的供應商以Canon以及Nikon為主, 浸潤式微影出現後DUV微影製程機台改由艾 ...
沒有ASML的DUV 陸晶片還有一漏洞可鑽
https://ctee.com.tw
Patel認為，透過自對準四重圖案（SAQP）等技術和DUV曝光機，中芯國際已經跨入7奈米製程，而且這並不是經濟上可實現的極限，台積電N5使用的28奈米最小 ...