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「duv中文」文章包含有:「ASMLDUV光刻機有多快?加速度高達7g、12秒完成一整片...」、「ASML」、「什麼是DUV深紫外光殺菌?如何挑選有效的紫外線消毒產品」、「半導體用光阻劑之發展概況」、「台積電不能沒有它!艾司摩爾崛起的秘密」、「小辭典》什麼是DUV設備?」、「日本荷蘭限制對華晶片技術出口,光刻機巨頭進一步面臨兩難」、「极紫外光刻」、「極紫外光微影製程」、「甚麼是深紫外光DUV」
查看更多![ASML DUV光刻機有多快?加速度高達7g、12秒完成一整片 ...](https://api.multiavatar.com/ASML+DUV%E5%85%89%E5%88%BB%E6%A9%9F%E6%9C%89%E5%A4%9A%E5%BF%AB%EF%BC%9F%E5%8A%A0%E9%80%9F%E5%BA%A6%E9%AB%98%E9%81%947g%E3%80%8112%E7%A7%92%E5%AE%8C%E6%88%90%E4%B8%80%E6%95%B4%E7%89%87+....png?apikey=viVnb6N20jclO8)
ASML DUV光刻機有多快?加速度高達7g、12秒完成一整片 ...
https://www.moomoo.com
DUV是深紫外線(Deep Ultraviolet Lithography),EUV是極深紫外線(Extreme Ultraviolet Lithography)。 從製程工藝來看,DUV只能用於生產7nm及以上製程 ...
![ASML](https://api.multiavatar.com/ASML+%7C+%E5%85%A8%E6%96%B9%E4%BD%8D%E5%BE%AE%E5%BD%B1%E6%8A%80%E8%A1%93%E4%BB%8B%E7%B4%B9.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
ASML
https://www.asml.com
我們的DUV深紫外光微影系統是當前半導體產業用於量產晶片的主力。ASML提供浸潤式和乾式微影解決方案,幫助晶片製造商量產各種節點和技術製程。 ASML的浸潤式 ...
![什麼是DUV深紫外光殺菌?如何挑選有效的紫外線消毒產品](https://api.multiavatar.com/%E4%BB%80%E9%BA%BC%E6%98%AFDUV%E6%B7%B1%E7%B4%AB%E5%A4%96%E5%85%89%E6%AE%BA%E8%8F%8C%3F%E5%A6%82%E4%BD%95%E6%8C%91%E9%81%B8%E6%9C%89%E6%95%88%E7%9A%84%E7%B4%AB%E5%A4%96%E7%B7%9A%E6%B6%88%E6%AF%92%E7%94%A2%E5%93%81.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
什麼是DUV深紫外光殺菌?如何挑選有效的紫外線消毒產品
https://www.onordesign.com
菌翹包袋內的UVC輻射照度平均值為182 μW/cm²,只要將被消毒面朝外,讓DUV LED照射即能確保有效殺菌。 如何挑選紫外線殺菌產品. 要有殺菌效果,必須要選對殺菌光源波長 ...
![半導體用光阻劑之發展概況](https://api.multiavatar.com/%E5%8D%8A%E5%B0%8E%E9%AB%94%E7%94%A8%E5%85%89%E9%98%BB%E5%8A%91%E4%B9%8B%E7%99%BC%E5%B1%95%E6%A6%82%E6%B3%81.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
半導體用光阻劑之發展概況
https://www.moea.gov.tw
和紫外線搭配的為g-line(436nm)和i-line(365nm)光阻劑,和深紫外線(DUV)搭配的為KrF(248nm)與ArF(193nm)光阻劑,超紫外線(EUV)光阻劑為目前最新技術之光阻 ...
![台積電不能沒有它!艾司摩爾崛起的秘密](https://api.multiavatar.com/%E5%8F%B0%E7%A9%8D%E9%9B%BB%E4%B8%8D%E8%83%BD%E6%B2%92%E6%9C%89%E5%AE%83%EF%BC%81%E8%89%BE%E5%8F%B8%E6%91%A9%E7%88%BE%E5%B4%9B%E8%B5%B7%E7%9A%84%E7%A7%98%E5%AF%86+-+%E6%99%BA%E8%82%A1%E7%B6%B2.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
台積電不能沒有它!艾司摩爾崛起的秘密
https://www.iqvalue.com
![小辭典》什麼是DUV設備?](https://api.multiavatar.com/%E5%B0%8F%E8%BE%AD%E5%85%B8%E3%80%8B%E4%BB%80%E9%BA%BC%E6%98%AFDUV%E8%A8%AD%E5%82%99%EF%BC%9F+-+%E8%87%AA%E7%94%B1%E8%B2%A1%E7%B6%93.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
小辭典》什麼是DUV設備?
https://ec.ltn.com.tw
微影設備是利用光線的波長來加工精密尺寸的晶片,又稱蝕刻機、光刻機;波長不同效率差很大。最早是使用汞燈產生的紫外光源,再來是深紫外光源(Deep ...
![日本荷蘭限制對華晶片技術出口,光刻機巨頭進一步面臨兩難](https://api.multiavatar.com/%E6%97%A5%E6%9C%AC%E8%8D%B7%E8%98%AD%E9%99%90%E5%88%B6%E5%B0%8D%E8%8F%AF%E6%99%B6%E7%89%87%E6%8A%80%E8%A1%93%E5%87%BA%E5%8F%A3%EF%BC%8C%E5%85%89%E5%88%BB%E6%A9%9F%E5%B7%A8%E9%A0%AD%E9%80%B2%E4%B8%80%E6%AD%A5%E9%9D%A2%E8%87%A8%E5%85%A9%E9%9B%A3.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
日本荷蘭限制對華晶片技術出口,光刻機巨頭進一步面臨兩難
https://www.bbc.com
作為製造半導體晶片的關鍵設備,光刻機一般分為三種,即最早的UV(紫外線光刻機),和後來的DUV(深紫外線光刻機)以及EUV(極紫外線光刻機),其中EUV用 ...
![极紫外光刻](https://api.multiavatar.com/%E6%9E%81%E7%B4%AB%E5%A4%96%E5%85%89%E5%88%BB-+%E7%BB%B4%E5%9F%BA%E7%99%BE%E7%A7%91%EF%BC%8C%E8%87%AA%E7%94%B1%E7%9A%84%E7%99%BE%E7%A7%91%E5%85%A8%E4%B9%A6.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
极紫外光刻
https://zh.wikipedia.org
1 DUV光刻制程; 2 EUV光刻制程; 3 光罩; 4 参考资料. DUV光刻制程 编辑. 晶圆制造过程里有一道程序是将设计好的电路图案(Pattern)缩小转印到晶圆上,此道制程便称之为光刻 ...
![極紫外光微影製程](https://api.multiavatar.com/%E6%A5%B5%E7%B4%AB%E5%A4%96%E5%85%89%E5%BE%AE%E5%BD%B1%E8%A3%BD%E7%A8%8B.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
極紫外光微影製程
https://zh.wikipedia.org
極紫外光微影(英語:extreme ultraviolet lithography,中國大陸稱為極紫外光刻,簡稱「EUV」或「EUVL」)又稱作超紫外線平版印刷術, 是一種使用極紫外光波長的微影 ...
![甚麼是深紫外光DUV](https://api.multiavatar.com/%E7%94%9A%E9%BA%BC%E6%98%AF%E6%B7%B1%E7%B4%AB%E5%A4%96%E5%85%89DUV.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
甚麼是深紫外光DUV
https://www.convergever.com
紫外線(Ultraviolet或簡稱UV)/ 深紫外線DUV=== 紫外線(Ultraviolet或簡稱UV)是波長比可見光短,但比X射線長的電磁輻射,波長範圍在10納米(nm) ...