duv光刻機
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「duv光刻機」文章包含有：「ASML獲准出口中國到年底！但中國爆出「國產」DUV將出貨」、「DUV光刻機從7nm再衝5nm？浸潤光刻之父：行！但成本極高」、「DUV和EUV光刻机的区别在哪？」、「DUV和EUV光刻机的区别在哪？」、「中國光刻機國產化真相到底如何?深度分析光刻機全球供應鏈！」、「台積電不能沒有它！艾司摩爾崛起的秘密」、「小辭典》什麼是DUV設備？」、「極紫外光微影製程」
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ASML獲准出口中國到年底！但中國爆出「國產」DUV將出貨
https://www.bnext.com.tw
面對制裁，傳出中國正在研發28奈米DUV，預計年底前交付第一台，以下為2023年8月8日報導。 曝光機是決定半導體生產製成水平高低的核心技術，包含光學系統、 ...
DUV光刻機從7nm再衝5nm？浸潤光刻之父：行！但成本極高
https://www.chinatimes.com
近日有著「浸潤式光刻之父」之稱的台積電前研發副總林本堅（Burn Lin）受訪時表示，依靠荷蘭艾斯摩（ASML）的DUV光刻機，可以繼續將製程工藝從7nm再推 ...
DUV和EUV光刻机的区别在哪？
https://m.zhitongcaijing.com
DUV和EUV最大的区别在光源方案。EUV的光源波长为13.5nm，但最先进DUV的光源波只有193nm，较长的波长使DUV无法实现更高的分辨率，因此DUV只能用于制造7nm及以上制程的芯片。
DUV和EUV光刻机的区别在哪？
http://www.ime.cas.cn
DUV和EUV最大的区别在光源方案。EUV的光源波长为13.5nm，但最先进DUV的光源波只有193nm，较长的波长使DUV无法实现更高的分辨率，因此DUV只能用于制造7nm及 ...
中國光刻機國產化真相到底如何?深度分析光刻機全球供應鏈！
https://hao.cnyes.com
目前光刻機主流是：一種浸潤式DUV，稱之為深紫外線光刻機，主要用於10-130nm光刻機。一種是EUV光刻機，也稱之為極紫外線光刻機，用於7nm及以下的芯片光刻 ...
台積電不能沒有它！艾司摩爾崛起的秘密
https://www.iqvalue.com
在2004年之前，光刻設備機主要以光為介質，偏偏這個時候，台積電的研發副總林本堅 ... DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme ...
小辭典》什麼是DUV設備？
https://ec.ltn.com.tw
微影設備是利用光線的波長來加工精密尺寸的晶片，又稱蝕刻機、光刻機；波長不同效率差很大。最早是使用汞燈產生的紫外光源，再來是深紫外光源（Deep ...
極紫外光微影製程
https://zh.wikipedia.org
極紫外光微影（英語：extreme ultraviolet lithography，中國大陸稱為極紫外光刻，簡稱 ... 早期市面上DUV微影製程機台的供應商以Canon以及Nikon為主, 浸潤式微影（英語 ...