euv製程
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Centura Tetra EUV 先進光罩蝕刻系統
https://www.appliedmaterials.c
極紫外線(EUV) 光罩是以新式微影系統，透過高能量、短波長的光源，將電路圖案轉印到晶圓。EUV 光源波長比目前深紫外線微影製程的光源波長短少約15 倍，因此能持續將線 ...
EUV 極紫外光！一個你應該知道與台積電相關的技術
https://www.stockfeel.com.tw
新聞常在報的 五奈米、三奈米先進製程、 EUV 微影技術等等，不清楚代表什麼意思，不用擔心，這次稍微帶大家輕鬆認識下這個我們最熟悉的陌生人。
EUV技術是摩爾定律「續命丹」？
https://www.eettaiwan.com
而在中國之外，只有英特爾、三星與台積電會在邏輯製程採用EUV；此外三星、海力士(SK Hynix)與美光(Micron)等記憶體業者也會將EUV用於DRAM製程。 跨越3奈米 ...
EUV是個什麼酷東西？ — 決定未來半導體先進製程的關鍵技術
https://semiknow-official.medi
微影製程(Lithography) 的本質就是讓光穿透光罩，把設計好的圖案映射在晶圓上面，因此我們會希望光在穿透光罩的過程中不要產生繞射，而讓原本的圖案變形。
全球瘋搶EUV 曝光機！究竟是摩爾定律的救命曙光
https://www.charmingscitech.na
極紫外光（Extreme ultraviolet, EUV）是波長小於13.5 奈米的光，使用EUV 作為光源的曝光機，即為EUV 曝光機。由於造價昂貴、製程繁複、貨源稀少， ...
挽救摩爾定律：ASML 極紫外光（EUV）微影技術量產的開發歷程
https://technews.tw
EUV 光的產生是用二氧化碳雷射每秒5 萬次去轟擊液態錫滴。出來的EUV 光通過一個直徑為0.65 公尺的橢球反光鏡送進微影機台裡頭。錫滴位於橢球反光 ...
極紫外光EUV微影是什麼？影片直擊台積電拚5奈米的關鍵 ...
https://www.bnext.com.tw
微影製程即是：用一台微影設備（Lithography），也稱作曝光機，也可以算是一種掃描儀器，將光透過光罩（Mask或Reticle），並利用ASML微影設備的光學系統將 ...
極紫外光微影製程
https://zh.wikipedia.org
極紫外光微影（英語：Extreme ultraviolet lithography，EUVL）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一種使用極紫外光（EUV）波長的微影製程(lithography)技術，目前用於7奈米 ...