low k半導體
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查看更多Low k、High k到底在幹嘛?
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更簡單地說,Low k是強化晶片內「前後左右,線路佈局」的運作速度並減少功耗,High k是強化晶片內「上下,電晶體開啟/關閉」的運作速度並減少功耗,兩者各有所 ...
Low
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所謂low-k(低介電常數值)就是指介電常數(dielectric constant)比較小的材料,因為這種材料允許晶片內的金屬導線可以互相緊密地貼近,而且在晶片內,不會 ...
Low-k膜開槽加工
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廣泛應用於高速Logic元件絕緣層的Low-k膜,因機械性質強度低,若使用一般刀片切割的加工方式,常有Low-k膜剝落的現象發生。 故移除Low-k膜及下方配線層時,常使用雷射機 ...
什麼是低介電材料? 有機樹脂或是無機填料,原來應用大不同!!
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在5G高頻通訊的快速發展,以及未來萬物聯網的科技浪潮下,降低電子產品的介電常數,使用低介電常數(low K)材料成爲減少信號遲滯時間的重要手段。 顧名思義,低 ...
低介電係數材料
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低介電係數材料(low-K材料)是當前半導體行業研究的熱門話題。通過降低積體電路中使用的介電材料的介電係數,降低導線之間的電容效應,降低積體電路發熱等等。低介電係數 ...
低介電常數材料於積體電路
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低導線電阻及增強抗電致遷移. 的能力﹔ 而使用低介電常數. (Low-k)材料取代二氧化矽(介. 電常數約為3.9). 做為金屬間介電. 層,得以有效降. 低電路中的寄生. 電容,如圖二所.
半導體IC絕緣膜面臨技術革新
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工程採用銅取代鋁,層間絕緣膜則採用. 低介電(Low-K)材料取代二氧化矽,這. 些技術動向已正式運用且量產化。所搭. 配平坦化的CMP(化學機械研磨)設. 備則必須是採低壓研磨。
所謂low
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所謂low-k(低介電值)就是尋找介電常數較小的材料,以降低導線間電流的互相干擾作用,進而提升IC內導線的傳輸功能。 由於電路信號傳遞的快慢是決定在電阻(R)與電容(C) ...