overlay半導體
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360°科技：微影疊對
https://www.digitimes.com.tw
微影疊對(overlay)顧名思義就是層對層(layer to layer)。晶片製造過程中，製程整合等工程人員依據電路線寬等特性，將龐雜的電路走線區分為不同光罩層 ...
EUV微影和Overlay控制詳解
https://www.eettaiwan.com
Overlay是IC製造中的關鍵參數之，其意義是當層與前層圖案(pattern)間對準的精準度(圖1)。 各層元件之間的電路連結，例如從電晶體到接觸點到導電連接， ...
先進記憶體IC的疊對量測挑戰
https://www.eettaiwan.com
晶圓廠使用疊對量測(overlay metrology)技術來測量和控制生產製程中的圖案/圖案對準。疊對誤差通常是在目標(整個曝光場中處於獨立位置的特殊圖案結構)上 ...
光學微影的限制
https://www.tsia.org.tw
在積體電路(IC)生產的發展初期，光學微影一直是半導體圖案製程的主流技術。電晶體 ... 層疊(Overlay) 是用以量測一個微影圖案置於晶圓時的精準度，而在晶圓上先前已有 ...
半導體微影製程疊對控制之研究
https://ndltd.ncl.edu.tw
半導體微影製程疊對控制之研究. 論文名稱(外文):, The Study of Semiconductor Lithography Overlay Control. 指導教授: 高川原. 指導教授(外文):, Kao ,Chuan-Yuan. 學位 ...
微影製程疊對量測改善
https://ir.nctu.edu.tw
Overlay 既然代表著前層與當層的對準狀況，因此量測的結果就會受到前層與當層圖形的影響，前製程所沉積的薄膜會因為生成的特性，影響到量測mark 的圖形，而當層因為是光阻 ...
晶圓Overlay 疊對量測機Overlay chek
http://cxsemi.com.tw
承湘科技成功研發自動傳送機構，結合可見光量測模組，應用於晶圓結構三維關鍵尺寸與Overlay 疊對量測確認，有效協助客戶節省量測時間與提高精度，是黃光製程不可或缺的首選 ...
疊對量測不確定度評估
https://aoiea.itri.org.tw
由於半導體製程關鍵尺寸(Critical Dimension) 設計的逐年減小，利用傳統光學顯微 ... Philippe Leray, David Laidler, “ Characterization of Overlay Mark Fidelity”, SPIE ...
第一章緒論
https://ir.nctu.edu.tw
覆蓋誤差模式(Overlay Modeling)微影技術為半導體工業中晶圓製造的關鍵製程。近年. 來步進機都使用重覆且步進的曝光技術來提昇晶圓在光罩曝光過程中的解析度 ...