suss曝光機
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DSC300 Gen3 投影掃描儀
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DSC300 Gen3投影掃描曝光機配備了Wynne-Dyson投影技術鏡頭，具有出色的成像性能。同款鏡頭也被幾家著名的1X UV步進曝光機製造商採用，因此DSC300 Gen3具有與這些步進式 ...
MA100150e Gen2 掩模對準器
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MA100/150e Gen 2 可透過SUSS MicroTec 經生產驗證的光罩對準曝光機設計，為新的裝置設計提供卓越的製程擴充能力，並可加速上市時間，同時可提供領先於業界，每小時145 片 ...
MABA Gen4 系列掩模和鍵合對準器
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SUSS MicroTec的光罩對準曝光機，是基於接近式曝光技術的。 性能與優點. 由於採用了減少衍射的光學技術，具有卓越的解析度; 使用 ...
Mask Aligner
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SUSS MicroTec設計的光罩對準曝光機系統，適用于3D封裝、先進封裝、MEMS、LED、化合物半導體、功率器件、光伏、納米技術和晶圓級光學領域的曝光應用。
Mask Aligner
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SUSS MicroTec 掩模对准器以其成熟的曝光光学系统成为高品质和高对准精度的代名词。产品线从科研和开发设备，到全自动大规模生产系统。SÜSS MicroTec 的掩模对准器系统 ...
Mask Aligner MA300 Gen3
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SUSSMA300的第三世代是一款適用於300mm與200mm晶圓上的高度自動化光罩對準曝光機平台。它特別是設計用在3D封裝、晶圓凸塊與晶圓級封裝應用上，但也能運用在其它必須 ...
MJB4掩模對準器
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4吋手動光罩對準曝光機. SUSS公司新發表的MJB4是高度受歡迎的手動光罩對準曝光機MJB3的次世代版本。其非常適合作為實驗室與小系列生產之理想的經濟型設備。
Products & Solutions
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ACS300 Gen3塗佈與顯影機晶圓尺寸最大可達300 mm的自動平臺 · ACS300 Gen3塗佈與顯影機晶圓尺寸 ... MA300 Gen3光罩對準曝光機用於300 mm和200 mm晶圓的高度自動化平臺.
投影光刻儀
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SUSS MicroTec提供的投影掃描儀技術利用了全場曝光和傳統投影光刻的綜合優勢，可作為掩模對準器和傳統投影步進器的替代品。投影掃描涉及將全場掩模與基板對齊，然後通過 ...
處理技術
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SUSS MicroTec的光罩對準曝光機，是基於接近式曝光技術的。 性能與優點. 由於採用了減少衍射的光學技術，具有卓越的解析度; 使用微透鏡光學系統，實現了製程 ...