光學關鍵尺寸
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多角度分光光譜臨界尺寸測量儀
https://www.quatek.com.tw
光學臨界尺寸（OCD）和高級膜分析計量. FilmTek TM CD光學關鍵尺寸系統是SCI針對1x nm設計節點及更高級別的全自動化，高通量CD測量和高級薄膜分析的領先解決方案。
晶圓量測與製程控制技術夯先進製程良率再添進程
https://www.semi.org
Nova Measuring Instruments 演算法部門主管 Dror Shafir 指出，過去數十年來，業界都是利用光學關鍵尺寸（OCD）法來量測電晶體尺寸，且隨著製程線寬 ...
更清楚・微細深孔之非接觸透視先進封裝關鍵尺寸AI
https://www.nstc.gov.tw
看的更細、更深、更清楚・微細深孔之非接觸透視先進封裝關鍵尺寸AI-powered光學量測系統. 發稿日期：112年4月26日工程技術研究發展處聯絡人：杜青駿 ...
看的更細、更深、更清楚先進封裝關鍵尺寸AI
https://www.ntu.edu.tw
此系統以創新光學量測原理為基礎，運用深紫外寬頻光源作為光學偵測，藉機器學習演算進行反向優化最佳化，針對多項關鍵尺寸量測突破技術瓶頸，其開口尺寸可 ...
重點科技研究學院陳亮嘉教授團隊：高深寬比微結構之創新性 ...
https://www.ntu.edu.tw
團隊所開發的光學關鍵尺寸量測技術，同時有效建立直接與逆向量測關鍵尺寸的方法。直接量測方式是對量測訊號進行直接分析，結構頂部尺寸以影像式量測；結構 ...
高深寬比微結構之創新光學散射關鍵尺寸量測技術
https://www.tiri.narl.org.tw
本研究發展了一創新之光學關鍵尺寸量測(OCD) 系統與技術，用以克服目前於先進封. 裝製程中，具高深寬比之微結構難以使用非破壞性檢測的困境。結合光譜反射術與光學散射.
高深寬比微結構之創新性具高信噪比光學關鍵尺寸量測技術
http://www.hiwin.org.tw
本研究基於整合光譜反射法(Spectral reflectometry)與散射量測法(Scatterometry). 兩種光學關鍵尺寸量測方法(Optical critical dimension (OCD) metrology),發展出一. 種 ...