浸潤式光刻機
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林本堅以浸潤式微影技術開創產業未來
https://www.itri.org.tw
難能可貴的是，台積電雖然在193奈米浸潤式微影曝光機成功引領新技術，但並未獨占 ... 這種由林本堅命名的光線，直到四十年後的今天仍被廣泛應用，變成光刻顯影技術的主流。
DUV光刻機從7nm再衝5nm？浸潤光刻之父：行！但成本極高
https://www.chinatimes.com
不過，林本堅表示，依靠現有的DUV光刻機（浸潤式）製造出5nm晶片依然是可行的，但是至少需要進行4重曝光。不幸的是，這種工藝的缺點是不僅耗時，而且價格昂貴，還 ...
極紫外光微影製程
https://zh.wikipedia.org
極紫外光微影（英語：extreme ultraviolet lithography，中國大陸稱為極紫外光刻，簡稱「EUV」或「EUVL」）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一種使用極紫外光波長的微影技術， ...
台積電不能沒有它！艾司摩爾崛起的秘密
https://www.iqvalue.com
後來，大家都知道了，ASML的浸潤式光刻設備機要比以前的光刻設備機在良品率、精度上都更好。當然，台積電在技術、人才、資金方面持續加碼，也促進了ASML在市場上 ...
【美股新聞】ASML 浸潤式DUV對中出口許可被撤
https://magnifier.cmoney.tw
它出售的第二種工具被稱為浸潤式深紫外光（Immersion DUV）光刻機，用於製造略低級的晶片。被荷蘭政府最新出口限制影響的NXT:2050i和NXT:2100i是DUV光刻機。
沒有EUV光刻機，怎麼做5nm晶片
https://hao.cnyes.com
你可能不知道，問世超過20年的DUV光刻機，還在發光發熱。 使用浸潤式DUV光刻機+多重曝光技術生產5nm晶片完全可行，不計代價的情況下甚至能做到3nm。
衝破晶圓製造瓶頸的一滴水
https://www.ltedu.com.tw
微影技術機是全世界最精密的照相機，可把電路的影像投射在覆蓋於矽晶圓上的光阻劑，然後，用顯影劑移除曝光的部位，再由蝕刻藥劑把電路刻到晶圓上，之後晶圓即可被切割成一個個 ...
光刻機革命：為什麼突破28nm是中美科技戰分水嶺？看中國 ...
https://hao.cnyes.com
浸潤式技術（Immersion Lithography）通過將光刻過程中的空氣介質取代為液體，通常是水，來提高光刻的解析度。這種技術利用了液體的折射率高於空氣的特性，使得 ...
CN101055423A
https://patents.google.com
浸润式光刻技术是将液体置于其光刻系统中的光学透镜与光致抗蚀剂之间，而利用由于其系统的数值孔径大于1而得以提升其解析度而光刻制造出更小特征尺寸的图案。一般而言，于 ...