「蝕刻液配方」熱門搜尋資訊

蝕刻液配方

「蝕刻液配方」文章包含有:「CN100545312C」、「CN102234806A」、「CN106757029A」、「半導體晶圓凸塊製造之鈦蝕刻液配方改善」、「电路板蚀刻液」、「蝕刻劑及蝕刻方法」、「蝕刻液」、「酸性蝕刻液250」、「銅在酸性溶液之蝕刻研究」

查看更多
Provide From Google
CN100545312C
CN100545312C

https://patents.google.com

该蚀刻液的配方为:HNO 3(5%~15%)、H 2SO 4(8%~20%)、Na 2SO 4(1%~6%)、添加剂0.01~0.2%,其中添加剂是含有如下一种或一种以上表面活性剂的复配剂:C 10~C 12脂肪醇聚 ...

Provide From Google
CN102234806A
CN102234806A

https://patents.google.com

本发明提供了一种不锈钢蚀刻液,该蚀刻液包括三氯化铁、盐酸、硝酸和己内酰胺;所述三 ... 液配方. CN109267127B 2023-09-05 一种铜基材处理液及预处理工艺. CN111850561B ...

Provide From Google
CN106757029A
CN106757029A

https://patents.google.com

Provide From Google
半導體晶圓凸塊製造之鈦蝕刻液配方改善
半導體晶圓凸塊製造之鈦蝕刻液配方改善

https://ndltd.ncl.edu.tw

本篇論文主要目的是探討並研究目前半導體製造過程中,UBM結構中的鈦蝕刻在濕式蝕刻製程所產生的鈦金屬殘留,殘留的原因來自於作為連接的凸塊因綠色環保的要求將傳統的 ...

Provide From Google
电路板蚀刻液
电路板蚀刻液

https://d1.amobbs.com

配制方法:. 常温常压下. 1. 在生产槽中按照比例依次加入原材料氯化铵、氯酸钠、盐酸和水;. 2. 经搅拌至完全溶解。 >酸性氯化铜蚀刻液配方. 酸性氯化铜蚀刻液配方见下表。

Provide From Google
蝕刻劑及蝕刻方法
蝕刻劑及蝕刻方法

https://patentimages.storage.g

然而,揭示膦酸系化合物只. 含氮膦酸,此膦酸系化合物,例如該溶液會導致強烈的著. 色,當使用為半導體基板用蝕刻劑時,由於金屬雜質較多,. 於添加在含過氧化氫水溶液時,會有 ...

Provide From Google
蝕刻液
蝕刻液

https://baike.baidu.hk

配製蝕刻液①和②時,將上述原料與60℃熱水混合,攪拌均勻即可。配置時不要使溶液濺到皮膚上,而且操作時應戴上口罩。配製蝕刻液③時,按配方將氫氟酸和硫酸混合,然後 ...

Provide From Google
酸性蝕刻液250
酸性蝕刻液250

http://www.hurricane.com.tw

酸性蝕刻液250. 一、簡介:. 250 是一種以氯酸鈉為主,且加入特殊配方的濃縮蝕刻液,蝕刻板子時,係以低酸當. 量進行操作,將得到較優良的蝕刻因子,免除雙氧水穩定性控制 ...

Provide From Google
銅在酸性溶液之蝕刻研究
銅在酸性溶液之蝕刻研究

https://scholars.lib.ntu.edu.t

本實驗針對銅溼式蝕刻之蝕刻液分為三個部分討論:第一部分為氯化銅-鹽酸-氯化銨系統研究,第二部分為硫酸-雙氧水與添加劑之作用,最後一個部分為低蝕刻速率之硫酸- ...