上海微電子ssa800:HKEPC
DUV光刻機成功了,上海微SSA800 DUV ArF
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ssa800光刻机
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SSA800光刻机是上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE)研发的28nm浸没式光刻机。该机于2023年12月成功研发,并于2024年1月交付给中芯国际。
上海微SSA800 DUV ArF
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SSA800光刻機是一款由上海微電子開發的浸沒式光刻機,適用于28nm制程的半導體生產。目前,這款光刻機還沒有正式交付市場,所以其具體的價格還不清楚。不過 ...
上海微電子
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上海微電子裝備(集團)股份有限公司(簡稱SMEE)是中國大陸半導體裝備製造商,主要生產半導體裝備、泛半導體裝備、高端智慧型裝備的開發、設計、製造、銷售及技術服務 ...
中國SMEE 上海微電子裝備集團將於 ...
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【28nm 】中國官媒報導,中國SMEE 上海微電子裝備集團將於年底推出首款先進28nm 的國產光刻機,官媒表示這標誌著中國自主研發道路上 跨出一大步,突破美國主導的打壓和 ...
中國完成首台國產28nm 光刻機與業界領先者差距縮減至15 年
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中國上海微電子設備集團(SMEE) 創立於2022 年,一直致力於製造先進的光刻機,現時已量產的SSA600 系列能應用於90nm、110nm、280nm 光刻技術,如果SSA800 ...
真正國產的28nm 光刻機、型號為SSA800
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... 上海微電子設備集團(SMEE) 宣布完成自主研究發、真正國產的28nm 光刻機、型號為SSA800-10W,如果屬實的話中國與業界領先者的差距將由20 年縮減至15 年 ...
進度成謎!傳上海微電子成功開發28 奈米曝光機
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上海張江集團日前在微信平台上發文稱,上海微電子(SMEE)成功研發出28 奈米曝光機,但不久上述文字已經刪除。 據彭博社、香港01 報導,上海張江 ...