微影技術:微影製程再進化!複雜電路的祕密

微影製程再進化!複雜電路的祕密

微影製程再進化!複雜電路的祕密

微影製程是將電路圖案,透過已刻好圖案的光罩及光阻,「轉印」到晶圓上的過程。舉例來說,在已有一層二氧化矽薄膜的晶圓上(見下圖),我們希望在特定位置蝕刻出一個洞, ...。其他文章還包含有:「ASML」、「光阻劑」、「半導體微影製程設備新興技術發展與產業觀察」、「奈米」、「微影」、「米雕?光雕?來、來、來,簡單玩光學微影曝光!」、「讓摩爾定律成真的關鍵:微影技術—影響七十億以上個未來」、「黃光微影製程技術」

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ASML
ASML

https://www.asml.com

我們的DUV深紫外光微影系統是當前半導體產業用於量產晶片的主力。ASML提供浸潤式和乾式微影解決方案,幫助晶片製造商量產各種節點和技術製程。

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光阻劑
光阻劑

http://homepage.ntu.edu.tw

• 極紫外線(EUV)微影技術. • X光微影技術. • 電子束(E-beam)微影技術. 晶圓. 遮蓋板. 透鏡. 透鏡. 透鏡. 電子槍. 折射光圈. 散光像差補償. 器. 44. 相位移光罩圖案化.

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半導體微影製程設備新興技術發展與產業觀察
半導體微影製程設備新興技術發展與產業觀察

https://www.moea.gov.tw

微影製程的目的是為了在晶圓上製作圖案,隨著半導體線寬愈做愈小,電晶體密度愈來愈高,從奈米進入埃米節點的世代,挑戰著曝光設備的極限,也造就ASML ...

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奈米
奈米

https://www.moea.gov.tw

奈米壓印微影(NIL)是一種用於製造奈米級結構的製程技術,可以用大量且快速的產生奈米級結構。相較於傳統的光學或電子束微影,NIL 採用直接壓印的方法, ...

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微影
微影

https://zh.wikipedia.org

微影製程(英語:photolithography 或optical lithography,中國大陸稱為光刻工藝)是半導體元件製造製程中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何 ...

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米雕? 光雕? 來、來、來,簡單玩光學微影曝光!
米雕? 光雕? 來、來、來,簡單玩光學微影曝光!

https://www.narlabs.org.tw

智慧手機堪稱現代的科技藝術品,則是由科學家利用物理、化學、材料、機械等特性,在晶圓上完成奈米等級電子元件圖形的定義,這種圖形定義的方法在半導體製程中稱為『微影 ...

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讓摩爾定律成真的關鍵: 微影技術— 影響七十億以上個未來
讓摩爾定律成真的關鍵: 微影技術— 影響七十億以上個未來

https://ee.ntu.edu.tw

[5] 而半導體. 製程中的微影(lithography)技術可說是整個半導體工業相當關鍵的製程,因為目前花費在微影製程的. 經費往往佔整個元件製作絕大部份的成本,而且這個比例尚 ...

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黃光微影製程技術
黃光微影製程技術

http://mems.mt.ntnu.edu.tw

台灣師範大學機電科技學系. C. R. Yang, NTNU MT. -10-. 光罩的設計技巧. ○光罩繪製是微影製程最基本步驟,透由光刻程序將光罩上的圖案的轉移. 至光阻,才能在基材上製作 ...