黃光蝕刻原理：第一章緒論
第一章緒論
Provide From Google
為何半導體無塵室都採用黃光？原來影響晶片關鍵步驟
https://tw.news.yahoo.com
在這個過程中，會將有二氧化矽絕緣層的矽晶圓塗上光阻，並於上方套上光罩（特定位置中有洞），透過紫外光照射，被光照過的光阻會變得容易溶解，將特定位置 ...
Provide From Google
黃光製程實驗室
https://cptft.mcut.edu.tw
本實驗室將進行之研究方向是半導體器件製造製程中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何圖形結構，然後通過蝕刻製程將光罩上的圖形轉移到所在基板上。
Provide From Google
光罩( Photomasking )製程簡介
http://ftpmirror.your.org
光罩的原理區分為兩個領域： ... 光阻劑是一種含感光懸浮物質的. 液態化學品，它對水銀電弧燈所. 產生的紫藍色光線具有感光作用. 它對紅色及黃色光線不具有感光. 作用，因此 ...
Provide From Google
半導體製程(二)
https://www.macsayssd.com
刻字訣的目的是把晶圓上的薄膜刻成某個圖案，由於這些圖案極端精細微小，所以當然不能用手刻，而是要用微影製程(或稱光刻製程)，由於此一系列製程多半在黃色燈光下進行， ...
Provide From Google
半導體製程類設備
https://prohanns.com.tw
MAXIS ICP-300LAH乾式蝕刻機產能較大，Batch式的載盤，其工作原理是利用電漿來進行薄膜的蝕刻，其最大優點是具有非等向性蝕刻,主要適用於半導體製程中氮化鎵材料蝕刻or ...
Provide From Google
半導體產業及製程
http://140.118.48.162
黃光(PHOTO). 1.光罩(MASK). 2.光阻(Coater). 3.曝光(Exposure). 4.顯影(Development). 蝕刻(ETCH). 1.濕蝕刻(Wet-ETCH). 2.乾蝕刻(DRY-ETCH). 光阻去除(PR remove). 將光 ...