Aligner:Wafer Aligner 晶圓尋邊器

Wafer Aligner 晶圓尋邊器

Wafer Aligner  晶圓尋邊器

WaferAligner/晶圓尋邊器可將方向不同邊的晶圓片作整理,使其缺口處方向一致.。其他文章還包含有:「ALIGNER」、「aligner」、「ManualMaskAligner」、「Stand」、「WaferAligner」、「曝光機MaskAligner設備如何執行量測?」、「樂華科技的Aligner皆使用最先進的技術」、「自動光罩對準曝光機」

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ALIGNER
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高速定位對應薄片 · 採用高解析度Line CCD 光學辨位系統 · 獨創的演算法,快速推算出定位 · 對應透明、超厚、超薄、翹曲晶圓工件 · 優秀的感測能力,支援具Notch、平邊、雙 ...

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Manual Mask Aligner
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基本規格 · Exposure light source:350W、500W、1KW、2KW · Substrats Size:2~12 ,up to 24 · Uniformity:Manual >±3% and < ±5% · Alignment Accuracy:±1um、≦5um ...

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Stand
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特性: · 在無需機器人參與的情況下,能夠實現基板對齊的自動裝置 · 高精度,高性能和高可靠性 · 具成本效益的,與Genmark機器人實現無縫集成 · 多功能- 測量所有基板(固體 ...

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Wafer Aligner
Wafer Aligner

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晶圓尋邊器(Wafer Aligner)也稱為晶圓對準器或校正機,屬於晶圓傳送系統中的核心部件,可以高速而精準地完成中心定位與角度補正的工作,其保證精度為0.1。

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曝光機Mask Aligner設備如何執行量測?
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針對曝光機避震平台做各軸向的量測,可得知各軸向變化,並將振動訊息可視化是把量測到的數值直接轉換成可以直觀形象理解的圖形或圖像表示方式,搭配現場操作人員經驗 ...

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樂華科技的Aligner 皆使用最先進的技術
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所有樂華科技的Aligner 皆使用最先進的技術,因此可以保證機台操作的精確性。 · RA320 為樂華科技最常見的Aligner 之一,在執行面擁有三種不同校正模式可選擇。 · 提供三種 ...

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自動光罩對準曝光機
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Automated Mask Aligner. MA300 Gen3 · MA200 Gen3 · MA100/150e Gen2. Semi-Automated Mask Aligner. MA/BA Gen4 Series · MA12 Gen3 · MA8 Gen5. Manual Mask Aligner.