光罩原理：隨世代持續演進，中華凸版提供的光罩解決方案
隨世代持續演進，中華凸版提供的光罩解決方案
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IC光罩應用介紹及其未來發展
https://www.materialsnet.com.t
1982年IBM Mr. David Levenson發明. 了相位移光罩，主要的原理是利用相鄰. 光束的電場相位移180度，形成破壞性干. 涉(Destructive interference)，使得空間影. 像(Aerial ...
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光罩
https://www.appliedmaterials.c
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光罩
https://zh.wikipedia.org
光罩（英語：Reticle, Mask）：在製作積體電路的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理。
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微影製程再進化！複雜電路的祕密
https://scitechvista.nat.gov.t
微影製程是將電路圖案，透過已刻好圖案的光罩及光阻，「轉印」到晶圓上的過程。舉例來說，在已有一層二氧化矽薄膜的晶圓上（見下圖），我們希望在特定位置蝕刻出一個 ...
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漸變式光罩技術開發(13)
https://ir.nctu.edu.tw
所以漸變式光罩的. 技術原理乃是利用光罩之通光量在不同位置上的變化,使得在經過光學投影系統. 的曝光後塗佈在晶片上的光阻得到曝光強度在不同位置上的分佈,因此在光阻中.