黃光微影製程

https

https://scitechvista.nat.gov.t

光阻劑

http://homepage.ntu.edu.tw

第七章: 微影製程. • 暫時在晶圓上塗佈光阻劑. • 將設計圖案轉移至光阻劑. • 為IC製程中最重要之步驟. • 占晶圓總製程時間的40 ~50%. 光阻劑. • 光敏感物質.

微影

http://140.127.114.187

◇微影的製程在經過軟烤的程序之後，原本液態的光阻劑便. 在晶片上固化。 ◇半導體3um以下的製程，主要是以正片進行圖案的轉移。 ◇光罩上面的圖案，將 ...

微影

https://zh.wikipedia.org

微影製程（英語：photolithography）是半導體元件製造製程中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何圖形結構，然後通過蝕刻製程將光罩上的圖形轉移到 ...

第一章緒論

https://ir.nctu.edu.tw

曝光是微影製程中最重要的一環，其原理並不複雜，但是因為尺寸的微小以精度的要. 求，使得曝光製程在技術上變的相當困難，由於IC 都是以十幾層以上不同圖案的光罩，. 經過 ...

米雕? 光雕? 來、來、來，簡單玩光學微影曝光!

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簡言之，我們經由簡易的微影製程將光罩上所有圖形轉移到晶圓上了。我們是在暗室中完成實驗過程，實際的微影製程是在不易對阻劑感光又能清楚操作的黃光室中 ...

黃光微影製程技術

http://mems.mt.ntnu.edu.tw

光罩繪製是微影製程最基本步驟，透由光刻程序將光罩上的圖案的轉移. 至光阻，才能在基材上製作微結構。 圖案(Layout)設計. CADENCE. L-EDIT. AUTOCAD. 轉檔成GDS格式.