三甲矽烷基胺tsa:TWI516440B
TWI516440B
宇川精密材料科技股份有限公司安全資料表(SDS)
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一、化學品與廠商資料. 化學品名稱:三甲矽烷基胺,Trisilylamine. 其他名稱:TSA. 建議用途及限制使用:化學中間體. 製造者/輸入者/供應者名稱:宇川精密材料科技股份 ...
製造三甲矽烷基胺的方法
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【0013】 本文揭示的是用於包含TSA 的反應器中製備三. 甲矽烷基胺(“TSA”)的方法,該三甲矽烷基胺於液相中扮作溶. 劑。該反應提供包含TSA 的粗製混合物。該包含TSA 的粗製.
三(三甲基矽基)胺
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三(三甲基矽基)胺是氨的所有氫原子都被三甲基矽基 (-Si(CH3)3)取代而成的化合物。 ... 三(三甲基矽基)胺在多年來一直都是研究熱點,因為它可作為化學固氮(在標準情況下把 ...
TWI658044B
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為產生單取代TSA/胺化合物,TSA/胺之莫耳比為約0.5至約5且更佳為約1至約3。為產生多取代TSA/胺化合物,TSA/胺之莫耳比為約0.1至約0.9。比率愈低,TSA化合物上胺之取代 ...
「Å 世代半導體計畫
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原子層沉積前驅物:聚矽烷前驅物(三矽甲基胺Tr isilylamine,TSA)、高電阻矽碳烷(聚矽烷前驅物-二. 碘矽烷Diiodosilane,DIS)等,純度˃5N。 C. 光阻材料 ...
聯華林德與宇川精密材料共同開發新半導體材料
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... 三甲矽烷基胺(Trisilylamine;TSA)生產設備及產線,預計每年生產產能可達3.6噸,計劃於2020年第3季投產。 新型的TSA生產設備將採用最尖端的製程,並 ...
三甲基矽烷
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三甲基矽烷或三甲基矽化氫,是一種有機矽化合物,化學式為C3H10Si,結構簡式(CH3)3SiH。它是一種極易燃的物質。三甲基矽烷用於半導體工業中的電漿相腐蝕劑。
【中文發明名稱】氮含量高的氮化矽膜
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前,這樣的膜是透過三甲矽烷基胺( trisilyla mine. 矽烷基胺(trisilyla. TSA )生成,且以自由基形式的NH,作為共反應物。 由. TSA 製程獲得的剛沉積的膜包括Si及N以作為主要成.
三甲硅烷基胺(TSA)
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中文名:三甲硅烷基胺 · 英文名:Trisilylamine · CAS号:13862-16-3 · 用途:通过流动化学气相沉积(FCVD)形成氧化硅 · 纯度指标:99.65% · 规格:公斤级.