cvd前驅物：先進半導體沉積和蝕刻設備技術發展與產業觀察
先進半導體沉積和蝕刻設備技術發展與產業觀察
CVD
https://www.appliedmaterials.c
CVD 是基板暴露在一種或多種揮發性前驅物的一個製程；這些前驅物會在基板表面上發生反應或分解，以產生所需的薄膜沉積物。CVD 製程可用於廣泛的應用領域。
CVDALD用貴金屬前驅物
https://tanaka-preciousmetals.
本公司開發各種CVD／ALD前驅物。而且，製作半導體用薄膜的CVD設備、評估薄膜用的各種分析儀器（FE-SEM、AFM、XRF等）產品俱全，依目的提供所需前驅物。
Precursor for CVD.ALD Deposition
https://www.uni-onward.com.tw
該產品是製備二氧化鈦薄膜的前驅物,. 可透過ALD與水沉積法製備之。 Tetraethyl orthosilicate, TEOS. TEOS 是一種含氧的Si 前驅物，用於沉積矽. 氧化物、矽氧烷聚合物 ...
以液體釕前驅物實現世界最高水準的蒸氣壓値開發CVD 與 ...
https://www.acnnewswire.com
前驅物是指利用CVD（化學氣相沉積法）或ALD（原子層沉積法）等方法，在基板上形成金屬薄膜、金屬. 配線時所使用的化合物。在CVD 與ALD 製程上，能夠在 ...
化學氣相沉積
https://www.syskey.com.tw
在典型的CVD中，將前驅物在室溫下進料到反應腔體中。當它們與加熱的基板接觸時，它們發生反應或分解以形成薄膜，並沉積在基材上。在此過程中，還會產生副產物，這些副 ...
化學氣相沉積
https://zh.wikipedia.org
化學氣相沉積（英語：chemical vapor deposition，簡稱CVD）是一種用來產生純度高、效能好的固態材料的化學技術。半導體產業使用此技術來成長薄膜。典型的CVD製程是將 ...
原子層沉積系統原理及其應用
https://www.tiri.narl.org.tw
在原子. 層沉積窗口，薄膜沉積速率是固定的，不隨溫度改. 變，而通常無機金屬前驅物比有機金屬前驅物有較 ... 以下將對原子層沉積(ALD) 和化學氣相沉積. (CVD) 之間的 ...
原子層沉積製程技術─前驅物測試與設備開發
https://w3.sipa.gov.tw
在前驅物的選用上，. 早期ALD 製程多沿用傳統CVD 製程使用的前驅物，. 但隨著材料特性、製程溫度等改變，傳統CVD 前. 驅物已無法滿足需求，新穎前驅物開發逐漸受到重.
台灣最大CVDALD材料製造商
https://www.nanmat.com
台灣最大CVD/ALD材料製造商. 全球少數具備從前段(合成/純化/分析)製程整合至後段(裝填包裝/容器製造/閥件維修)完整技術服務的高科技CVD/ALD先進材料公司。