ALD 鍍膜 機:ALD
ALD
ALD機台
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每部ALD都具備6個腔體位置,與EFEM高度整合 · 可依客戶需求選擇腔體配置,高度客製化 · 可選配treatment chamber,有效進行ALD deposition的pre-treatment or post treatment ...
Picosun ALD 原子層沉積系統P
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原子層薄膜沉積鍍膜(ALD) 代工. Picosun ALD原子層薄膜沉積. P-300F 群集式. PICOSUN™ P-300F ALD系統專用於生產微處理器、記憶體和硬碟等IC部件及製造功率電子晶片、混合 ...
原子层沉积(ALD)镀膜机
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ALD设备提供创新和灵活的设计,为MEMS和复杂的3D表面沉积高质量的光学薄膜,显着提高镀膜产品的性能和使用寿命,设备运行速度快、可靠性高且极易维护。
原子層沉積系統
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原子層沉積(Atomic Layer Deposition, ALD)是可以被用來替換CVD、電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)和濺鍍技術的新製程。原子層沉積也是化學氣相沉積技術(CVD)的一種,其 ...
原子層沉積系統原理及其應用
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由於依序性的氣體引進方式、飽和吸附與自我. 限制的鍍膜機制,使原子層沉積(ALD) 擁有優異. 的階梯覆蓋率、良好的薄膜均勻性、精確的膜厚控. 制、傑出的製程穩定度、低溫 ...
原子層鍍膜系統
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SVTA公司提供RD型原子層沉積ALD系統,可對應OD 8英吋的基板,全系統採用熱壁式反應腔體設計(hot-wall design),可有效增加反應合成機率.
批次ALD(原子層)鍍膜設備
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平面單片/卡夾多片之LOAD-LOCK CST IN/OUT 高產量製程設備. 加熱與電漿化學氣相沈積雙鍍膜方案,可獲得高均勻性與保型性的超薄薄膜. 100% 保型,精確的厚度控制, ...
矽碁科技股份有限公司
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原子層沉積(ALD)為一種氣相化學沉積技術。大多數的ALD反應,將使用兩種化學物質稱為前驅物。這些前驅物以連續且自限的方式與材料表面進行反應。通過ALD循環的次數, ...
複合式原子層鍍膜設備技術
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