pecvd中文:電漿化學氣相沉積(PECVD)
電漿化學氣相沉積(PECVD)
PECVD
https://www.spts.com
等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)是一種利用等離子內的能量在晶片表面引發反應的工藝,否則該反應將需要與常規CVD相關的更高溫度。沉積過程中的高能離子轟擊還可以改善薄膜 ...
PECVD 鍍膜製程
http://www.mesotek.com.tw
特殊脈衝電漿製程,腔體內之部件表面皆可均勻的鍍上膜層,不受物件形狀限制. 特殊脈衝電漿製程可提供更密緻、更厚、生成速率更快的膜層.
Technology
https://www.lamresearch.com
Reliant 系統 化學氣相沉積(CVD) 脈衝雷射沉積(PLD) 電漿輔助化學氣相沉積(PECVD) 高密度電漿化學氣相沉積(HDP-CVD). 我們的Reliant 沉積產品可實現特殊製程藍圖,並 ...
化學氣相沉積
https://zh.wikipedia.org
電漿增強化學氣相沉積法(Plasma-Enhanced CVD,PECVD):利用電漿增加前驅物的反應速率。PECVD技術允許在低溫的環境下成長,這是半導體製造中廣泛使用PECVD的最重要原因。
產品電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)
http://www.samco.co.jp
電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)是利用反應氣體轉爲電漿狀態時,所產生的活性基及離子的在基板上的化學反應形成薄膜的技術. 使用在化合物半導體及砂半導體製程上的氮化矽的保護 ...
電漿輔助化學氣相沉積
https://zh-tw.dahyoung.com
電漿增強化學氣相沉積(PECVD)技術是材料表面改質和薄膜沉積的基本方法之一,利用電漿讓有機單體(monomer)在真空腔體中產生裂解與聚合反應,形成一結構緻密的保護層。 此膜 ...
電漿輔助化學氣相沉積系統A (Plasma
https://nanofc.web.nycu.edu.tw
電漿輔助化學氣相沉積系統A (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD-A) – 陽明交通大學奈米中心