光罩 CD:TWI457694B
TWI457694B
Chrome Mask 光罩產品與製程
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... 去光阻等過程即完成光罩製作,而這個烙印的玻璃板即是所謂的光罩。光罩尚需經過CD量測、註記差量測及缺陷檢驗以符合客戶需求,最後加以清洗、覆蓋防塵薄膜而出貨。
MueTec
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MueTec提供用於晶圓與光罩產業中,各種的全自動化光學量測(Metrology)、檢測(Inspection) 系統,包括CD(關鍵尺寸Critical Dimension)和OVL(微影疊對Overlay)、缺陷 ...
NEBULA S200DS200光罩
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先進的多路光學系統進行CD量測(黑白)和Review(彩色) · 優化的系統照明採用365nm,460nm 和530nm 適用不同的場景 · 透射光和反射光同時進行量測,提升量測精度 · 雷射自動 ...
光學微影的限制
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微影品質可分成四大類:光阻分佈控制、疊層、下游相容性以及量產可行性。 光阻分佈控制 是線寬(CD)控制標準的超集合。對於許多顯影步驟而言,以正確尺寸刻出 ...
光罩工業及其製程技術之探討
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傳統光罩的精密程度不高,適用微距(critical dimension; 簡稱CD)較寬的製程。相位移光罩是利用不同相位的光源,來消除光之干射及繞射現象,主要功能為提高解析度、及 ...
標準產品
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標準產品 ; Reticle Material, Quartz ; Reticle Dimension, 4x4x0.09 5x5x0.09 6x6x0.12 7x7x0.12 7x7x0.15 ; CD Tolerance, ±0.1 um ; Registration, ±0.2 um.
臨界尺寸量測方法最佳化之研究
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(1)光罩(Mask)CD:光罩設計時給定一特定規格CD,經黃光微影製程. 轉移圖像後在晶圓上顯現ADI CD,相同條件下,不同光罩CD 大小將直接. 影響ADI CD 大小。