光罩 CD
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Chrome Mask 光罩產品與製程
http://www.world-atc.com
... 去光阻等過程即完成光罩製作，而這個烙印的玻璃板即是所謂的光罩。光罩尚需經過CD量測、註記差量測及缺陷檢驗以符合客戶需求，最後加以清洗、覆蓋防塵薄膜而出貨。
MueTec
https://www.scientech.com.tw
MueTec提供用於晶圓與光罩產業中，各種的全自動化光學量測(Metrology)、檢測(Inspection) 系統，包括CD（關鍵尺寸Critical Dimension）和OVL(微影疊對Overlay)、缺陷 ...
NEBULA S200DS200光罩
http://www.legendtech.com.tw
先進的多路光學系統進行CD量測（黑白）和Review（彩色） · 優化的系統照明採用365nm，460nm 和530nm 適用不同的場景 · 透射光和反射光同時進行量測，提升量測精度 · 雷射自動 ...
TWI457694B
https://patents.google.com
通常，為了改善光罩之CD(Critical Dimension，關鍵尺寸)性能，有效的是使遮光膜及用以形成該遮光膜之光阻劑薄膜化。然而，若使遮光膜薄膜化，則OD值(Optical Density， ...
光學微影的限制
https://www.tsia.org.tw
微影品質可分成四大類：光阻分佈控制、疊層、下游相容性以及量產可行性。 光阻分佈控制 是線寬(CD)控制標準的超集合。對於許多顯影步驟而言，以正確尺寸刻出 ...
光罩工業及其製程技術之探討
https://www.ctimes.com.tw
傳統光罩的精密程度不高，適用微距（critical dimension; 簡稱CD）較寬的製程。相位移光罩是利用不同相位的光源，來消除光之干射及繞射現象，主要功能為提高解析度、及 ...
標準產品
https://www.tmcnet.com.tw
標準產品 ; Reticle Material, Quartz ; Reticle Dimension, 4x4x0.09 5x5x0.09 6x6x0.12 7x7x0.12 7x7x0.15 ; CD Tolerance, ±0.1 um ; Registration, ±0.2 um.
臨界尺寸量測方法最佳化之研究
https://ir.nctu.edu.tw
(1)光罩(Mask)CD：光罩設計時給定一特定規格CD，經黃光微影製程. 轉移圖像後在晶圓上顯現ADI CD，相同條件下，不同光罩CD 大小將直接. 影響ADI CD 大小。