de chuck原理：除電參數分析及實驗設計於晶圓蝕刻後之偏移量改善研究
除電參數分析及實驗設計於晶圓蝕刻後之偏移量改善研究
Electrostatic Chuck（ESC 静电吸盘）
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基本原理：. 静电吸盘吸引力一般涉及三种吸附原理（库仑力、约翰逊-拉贝克力，梯度力）但在实际生产过程中并不总是只有一种力在起作用，而是多种力结合 ...
Wafer Chuck的基本概念、工作原理和应用领域介绍
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Wafer chuck是一种用于夹持硅片、薄膜和其他材料的装置，以保证它们在加工过程中的稳定性和精确性。它通常由夹持器、定位器和调整器等部分组成，能够夹持和 ...
■ 什麼是靜電吸盤What is Electrostatic Chuck?
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(1) 施加電壓給靜電吸盤電極。 (2) 靜電吸盤表層將會極化，並且對被吸附物表面產生吸力。 (3) 吸附力只產生在靜電吸盤電極與被吸附物表面之間。 (4) 被吸附物的表面極化只 ...
什麼是靜電吸盤
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靜電吸盤是利用『靜電的力量』去吸附對象物的一種裝置。 靜電吸盤上存在著正電極與副電極，只是肉眼看不見。對象物被靜電吸盤吸附的狀態下，內部的正負電極相互吸附、電荷之 ...
固定&吸附元件(Chuck)簡介
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... Chuck，ESC) 就是用來解決這種問題，基本上的原理是利用介電質材料儲存電位能產生靜電，利用靜電去吸附材料，主要有兩種型式：J-R ESC & Coulomb Force ESC ...
靜電吸盤的基本構造和原理
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這是因為直流自偏壓起到了吸盤電壓的作用。在某些反應腔中（不是蝕刻機的），甚至不需要用高壓（低流）直流電源的靜電壓，完全靠直流自偏壓就足夠完成吸住晶片的任務。所以，在 ...
靜電吸盤解決方案
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ESC 原理是藉由施加超過1000伏的高電壓於電極承載板上產生靜電力，而使電極承載板和晶圓間產生吸附，配合冷卻裝置讓成膜/蝕刻製程能有效被控制。
靜電盤的吸附原理
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以Johnson-Rahbek所主導的靜電吸盤，是透過調整介電層的絕緣性，以少量通過的電流來吸附對象物。將內部電極加壓電壓後，電荷慢慢地往表面移動，產生虛擬電極。產生的虛擬電極與 ...