光刻機原理：EUV光刻，最終勝出！
EUV光刻，最終勝出！
半導體製造“母機” ——光刻機的前生今世
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光刻機是一種投影曝光系統：光刻機由光源、 照明系統、 物鏡、 工件台等部件組裝而成。在芯片製作中， 光刻機會投射光束， 穿過印有圖案的光掩膜版及光學鏡片 ...
【科普】光刻机的工作原理
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简单点来说，光刻机就是放大的单反，光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上，形成图形。
半導體解密：ASML曝光機憑什麼能一廠獨大？台積電總能買 ...
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曝光機的原理其實像幻燈機一樣簡單，就是把光透過帶電路圖的掩膜（Mask，後來也叫光罩）投影到塗有光敏膠的晶圓上。早期60年代的光刻掩膜版以1：1的 ...
详解光刻机结构及工作原理原创
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光刻机的工作原理是基于光学投影技术的。它利用光学系统将电路设计的图案投影到硅片上，然后使用光敏材料制作出电路图案。光刻机的主要组成部分包括光源、 ...
制造一台光刻机，究竟有多难？
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光刻机采用的方法是激光等离子体型光源，即利用高功率的激光击打金属锡，产生高温高密度的等离子体，辐射出极紫外光。其实这种方法很久之前就被证实，但是起初 ...
光刻机
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光刻的工作原理 在诸如硅片的基底表面覆盖一层具有高度光敏感性的光刻胶，再用特定光（一般是紫外光、深紫外光、极紫外光）透过包含目标图案信息的掩模版照射在基底表面， ...
EUV光刻
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在集成電路製造全部流程中，光刻是最為關鍵的一環。光刻機的原理其實像幻燈機一樣簡單，就是把光通過帶電路圖的掩膜(Mask)投影到塗有光敏膠的晶圓上。早期60年代的光刻 ...
扫盲：关于光刻机和刻蚀机
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它的基本原理是在真空低气压下，ICP 射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈，以一定比例的混合刻蚀气体经耦合辉光放电，产生高密度的等离子体，在下电极的RF ...