晶圓清洗機:晶圓清洗機

晶圓清洗機

晶圓清洗機

本機具有以下特點:.(a)轉速設定:200-2800rpm.(b)清洗劑及洗淨時間設定:0-999sec.(c)吹乾時間設定:0-999sec.(d)可設定加壓或不加壓噴洗。(e)水壓、氣壓、氮氣壓設定。。其他文章還包含有:「全自動晶圓清洗機」、「半導體濕製程設備,單晶圓清洗機」、「台積公司晶圓清洗機台熱水循環系統2.0,省電38萬度」、「晶圓(晶片)清洗機」、「晶圓清洗機」、「晶圓清洗機」、「晶圓盒清洗機」

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全自動晶圓清洗機
全自動晶圓清洗機

https://www.zenvoce.com

特點. 防靜電(Anti-ESD); 完全自動進出料盒; 多功能清潔能力; 堅固安全; 操作方便; 100級潔凈度(選配). 聯絡我們. 產品規格. 特點. 防靜電(Anti-ESD); 完全自動進出料 ...

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半導體濕製程設備,單晶圓清洗機
半導體濕製程設備,單晶圓清洗機

https://www.gkcsemi.com

單晶圓蝕刻機(Single Wafer Spin Etcher). 單晶圓濕蝕刻Spin Processor,適用於UBM、RDL 、BGBM及各種金屬層的刻蝕,清洗和去膠等工藝流程。 腔體特殊設計,保證化學品回收率, ...

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台積公司晶圓清洗機台熱水循環系統2.0,省電38萬度
台積公司晶圓清洗機台熱水循環系統2.0,省電38萬度

https://esg.tsmc.com

呼應聯合國第7項永續發展目標,台積公司致力優化製程能資源使用效率,攜手供應商首創晶圓清洗機台熱水循環系統有效省水80%;為創造更多節能機會點, ...

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晶圓(晶片)清洗機
晶圓(晶片)清洗機

http://www.ntl.com.tw

WS300系列晶圓/晶片清洗機採全自動或半自動模式來清洗切割後的產品,可⾃⾏設定所需的清洗程序來維持穩定的清洗品質及效率。除了可使用水氣二流體噴嘴,也另外可選配⽑刷或海綿 ...

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晶圓清洗機
晶圓清洗機

https://www.kedsemi.com

晶圓清洗機. 8-12 Inch 單片晶圓dry-in/dry-out清洗平臺,適用于先進封裝制程的particle、有機、無機、助焊劑等污染物清洗可選配二流體、megasonic、超高壓噴洗、 ...

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晶圓清洗機
晶圓清洗機

https://www.dahe.url.tw

適用基板尺寸: 2 or 12 Wafer/ Glass. 產品功能:晶圓清洗. 光罩清洗. 藍寶石晶圓清洗. 玻璃基板清洗. 動作選擇:手動及半自動. 產品型式:桌上型. 落地型.

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晶圓盒清洗機
晶圓盒清洗機

https://cti-system.tw

功能亮點. 1.全方位清洗:採用獨特的清洗工藝,360度無死角清洗,確保片盒和FOUP的每個角落都得到徹底清潔,同時防止細菌滋生,維護晶圓的潔淨環境。 2.精密清洗技術:自主研發的 ...