曝光機stepper aligner：光阻塗佈機-顯影機-濕製程
光阻塗佈機-顯影機-濕製程
ASML光刻机，如何一步步走上“绝路”？
https://news.qq.com
二、 光刻机从Aligner到Stepper(步进光刻机)，是一次微机电的升级，从一次曝光一整片晶圆到光头在晶圆上一步一步(Step and repeat)移动曝光一个小方块 ...
NDL I
https://www.tsri.org.tw
經由實驗設計與光罩layout，可將critical layer與alignment mark設計在第一層由NDL I- line stepper曝光，之後的non-critical layer再. 破片由contact aligner曝光。 設計有 ...
半導體解密：ASML曝光機憑什麼能一廠獨大？台積電總能買 ...
https://www.techbang.com
可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長雷射和類似投影機原理的步進式曝光機（英語：stepper）或掃描式 ...
微影照像
https://www.wunan.com.tw
3. 曝光（exposure）用光罩對準儀（mask aligner）或步進照像機（stepper）。 前者一次曝光一整片晶圓（wafer），後者以步進重覆方式，一次曝光數個晶. 片（chip）。更 ...
數位光阻材料技術與應用
https://www.materialsnet.com.t
目前產業界曝光技術主要仍以光罩式傳統曝光技術為主，例如使用光罩對準機(Mask Aligner)如圖三(a)，光罩與光阻層直接接觸，平行光從光罩的透明區域穿過到光阻 ...
曝光機
https://zh.wikipedia.org
曝光機（英語：Aligner），是積體電路製造的關鍵裝置。從發展歷史來看一共五種機型，分別為接觸式（contact），接近式（proximity），步進式（stepper），掃描式（scanner），重複 ...
曝光機Mask Aligner設備如何執行量測?
https://www.goodtechnology.com
可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長雷射和類似投影機原理的步進式曝光機（英語：stepper）或掃描式曝光機（英語： ...
高功率UV LED於半導體曝光製程的性能評估
https://www.euflex.com.tw
曝光機(Mask Aligner/Stepper)廣泛應用於微米範圍結構的光刻(lithography)製程，如先進半導體封裝(bump/RDL)、微米光學元件、高階被動元件、LED、MEMS ...
黃光微影製程技術
http://semi.tcfst.org.tw
- exposed by aligner, stepper or scanner. - Post Exposure Bake (PEB). 3 ... 電子束曝光系統的優點就是可以直接生產所需的圖. 形，利用線圈的電場或磁場偏折控制 ...