均勻度計算:照度均匀度

照度均匀度

照度均匀度

照度均匀度=最小照度值/平均照度值.最小照度值是按照逐点计算法算出来。公式:U0=Emin/Eav.U1=Emin/Emax.U2=1-((Emax-min)/Eav).计算方法.·逐点计算法.·点光源平方 ...。其他文章還包含有:「CN101930938A」、「【Excel教學】均勻性計算彙整」、「什么是片内&片间均匀性?」、「什么是片内&片间均匀性?转载」、「化學機械研磨製程對晶圓不均勻度之影響最佳化分析」、「均勻度指數」、「平面顯示器均勻度的快速量測系統方案」...

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CN101930938A
CN101930938A

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本发明公开了一种监测膜厚均匀性的方法,包括如下步骤:第1步,在一个硅片的薄膜上,取硅片中心位置的一个或多个测量点测量膜厚,取硅片边缘位置的一个或多个测量点测量膜厚 ...

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【Excel教學】均勻性計算彙整
【Excel教學】均勻性計算彙整

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均勻性公式 常使用的均勻性公式為以下: 所以以上方表格做計算的公式則為:「=1-((MAX(B3:H8)-MIN(B3:H8))/(2*AVERAGE(B3:H8)))」,結果為91.1%。

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什么是片内&片间均匀性?
什么是片内&片间均匀性?

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片间均匀性指的是在一个批次内,不同晶圆之间的指标差异的一致性。片间uniformity的计算通常需要同一批次中多片晶圆的某个指标的所有测量值。

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什么是片内&片间均匀性? 转载
什么是片内&片间均匀性? 转载

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片间uniformity的计算通常需要同一批次中多片晶圆的某个指标的所有测量值。 首先,为每片晶圆计算平均值。 之后在所有晶圆的平均值中,找到最大的平均值 ...

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化學機械研磨製程對晶圓不均勻度之影響最佳化分析
化學機械研磨製程對晶圓不均勻度之影響最佳化分析

https://tpl.ncl.edu.tw

而本研究模 擬之結果可以得到以下結論: 1. 研磨墊彈性膜數越大時晶圓表,對於改 善晶圓表面不均勻度越佳。 2. 載具膜彈性膜數越小時對於改善晶圓 表面不均勻度越佳。 3. ...

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均勻度指數
均勻度指數

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均勻度是計算某一地區內不同物種之相對數量的指數。我們可以查看在豐富度指數單元中曾解釋過的例子:. 圖A和圖B擁有相同的豐富度指數 ...

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平面顯示器均勻度的快速量測系統方案
平面顯示器均勻度的快速量測系統方案

https://aoiea.itri.org.tw

在目前市面上最常用來量測顯示器均勻度的設備就是運用XY table 定位平台搭配量測儀器來進 行量測,透過機械式的量測平台將儀器移動到正確的量測角度(量測點),這樣的量測 ...

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第一章緒論
第一章緒論

https://ir.lib.nycu.edu.tw

量測的方法為在晶圓上分九個區域,量九點, 取其平均值當作厚度指標,均勻度index(U)的算法如下。 其中M 為此量測九點的平均值,SD 為此九點的標準差。

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說說溫度均勻度
說說溫度均勻度

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高低溫試驗箱的溫度均勻度和干燥箱的溫度均勻度,有很大的區別。高低溫試驗 ... 均勻度計算方法基本一致。 2、干燥箱的溫度均勻度是有±號的,與試驗箱的計算方法 ...