曝光機光刻機：國教院跟風中國？ EUV曝光機變「光刻機」
國教院跟風中國？ EUV曝光機變「光刻機」
曝光機
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曝光機（英語：Aligner），是積體電路製造的關鍵裝置。從發展歷史來看一共五種機型，分別為接觸式（contact），接近式（proximity），步進式（stepper），掃描式（scanner），重複 ...
從ASML的曝光機產品生命週期，看到設備股的營運模式
https://uanalyze.com.tw
ASML是全球半導體設備領域的領軍企業，其曝光機（光刻機）在先進晶片製造中扮演關鍵角色。這些設備技術極其複雜且昂貴。從設計、製造到最終退役，每一個 ...
中國產光刻機可做8奈米晶片？科技業專家曝實情
https://tw.news.yahoo.com
中國半導體技術近日傳出有重大突破，中國工信部月初公布一項通知，內容顯示其國產研發出的氟化氬光刻機，即深紫外光曝光機（DUV），分辨率小於65奈米（nm）、 ...
技術突破陸成功自製DUV曝光機
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中國大陸工業和信息化部（工信部）近日公布一項通知顯示，大陸已取得技術突破，研發出深紫外光曝光機（DUV），可生產八奈米及以下晶片，目前正在推廣應用。
解讀《晶片戰爭》：世界上最複雜的機器「EUV曝光機」
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ASML是荷蘭公司，目前也只有他們能夠掌握EUV曝光機，但他們的護城河是用「數十年的時間」+「全球化供應鏈管理」+「數百億美金」，打造一台猶如從地球照 ...
曝光机和光刻机的区别
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曝光机主要用于半导体制造中的光刻工艺。在光刻过程中，曝光机负责将芯片上的图形或图案投影到光敏的光刻胶层上，从而形成所需的图形结构。曝光机通常使用紫外光源，通过光学 ...
中國產光刻機可做8奈米晶片？科技業專家曝實情：技術接近 ...
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... 光刻機，即深紫外光曝光機（DUV），分辨率小於65奈米（nm）、套刻精度小於8奈米，被解讀為可生產8奈米及以下晶片。不過，台大電機博士畢業的科技產業 ...
大突破陸製DUV光刻機可生產65奈米以下晶片
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芯智訊引述專家指出，氟化氪光刻機是老式的248奈米光源的KrF光刻機，解析度為小於或等於110奈米，套刻精度小於或等於25奈米；氟化氬光刻機則是193奈米光源的 ...