極紫外光微影製程：全球瘋搶EUV 曝光機！究竟是摩爾定律的救命曙光
全球瘋搶EUV 曝光機！究竟是摩爾定律的救命曙光
EUV是個什麼酷東西？ — 決定未來半導體先進製程的關鍵技術
https://semiknow-official.medi
微影製程(Lithography) 的本質就是讓光穿透光罩，把設計好的圖案映射在晶圓上面，因此我們會希望光在穿透光罩的過程中不要產生繞射，而讓原本的圖案變形。
全方位微影技術介紹
https://www.asml.com
我們的DUV深紫外光微影系統是當前半導體產業用於量產晶片的主力。ASML提供浸潤式和乾式微影解決方案，幫助晶片製造商量產各種節點和技術製程。 ASML的浸潤式 ...
挽救摩爾定律：ASML 極紫外光（EUV）微影技術量產的開發歷程
https://technews.tw
EUV 微影技術歷經20 餘年的實驗室研發，以及12 年的量產研發，至今成為半導體先進製程中最重要的生產工具。ASML 全球副總裁暨技術開發中心主任嚴濤南，正 ...
極紫外光EUV微影是什麼？影片直擊台積電拚5奈米的關鍵技術 ...
https://www.bnext.com.tw
微影製程即是：用一台微影設備（Lithography），也稱作曝光機，也可以算是一種掃描儀器，將光透過光罩（Mask或Reticle），並利用ASML微影設備的光學系統將 ...
極紫外光微影
https://www.nsrrc.org.tw
與現今的深紫外光(l=193nm)微影技術相較，極紫外光的波長(13.5nm)大幅縮短，能量更高，因此從光源、光罩、光阻、檢測、微影製程到元件可靠度均與目前的技術有極大的差異。
極紫外光微影—延續摩爾定律的重要技術
https://www.iner.gov.tw
爾後隨製程線寬不斷微縮，光源波長也從i-line(365 nm 波長)到利用惰性氣體和鹵素分子結合激發的深紫外光(DUV)準分子雷射光源，如氟化氪(KrF)產生的248 nm波長和氟化氬(ArF) ...
極紫外光微影製程
https://zh.wikipedia.org
極紫外光微影（英語：Extreme ultraviolet lithography，EUVL）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一種使用極紫外光（EUV）波長的微影製程(lithography)技術，目前用於7奈米 ...