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極紫外光微影製程

「極紫外光微影製程」文章包含有:「EUV是個什麼酷東西?—決定未來半導體先進製程的關鍵技術」、「全方位微影技術介紹」、「全球瘋搶EUV曝光機!究竟是摩爾定律的救命曙光」、「挽救摩爾定律:ASML極紫外光(EUV)微影技術量產的開發歷程」、「極紫外光EUV微影是什麼?影片直擊台積電拚5奈米的關鍵技術...」、「極紫外光微影」、「極紫外光微影—延續摩爾定律的重要技術」、「極紫外光微影製程」

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EUV是個什麼酷東西? — 決定未來半導體先進製程的關鍵技術
EUV是個什麼酷東西? — 決定未來半導體先進製程的關鍵技術

https://semiknow-official.medi

微影製程(Lithography) 的本質就是讓光穿透光罩,把設計好的圖案映射在晶圓上面,因此我們會希望光在穿透光罩的過程中不要產生繞射,而讓原本的圖案變形。

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全方位微影技術介紹
全方位微影技術介紹

https://www.asml.com

我們的DUV深紫外光微影系統是當前半導體產業用於量產晶片的主力。ASML提供浸潤式和乾式微影解決方案,幫助晶片製造商量產各種節點和技術製程。 ASML的浸潤式 ...

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全球瘋搶EUV 曝光機!究竟是摩爾定律的救命曙光
全球瘋搶EUV 曝光機!究竟是摩爾定律的救命曙光

https://www.charmingscitech.na

極紫外光(Extreme ultraviolet, EUV)是波長小於13.5 奈米的光, ... 光學微影的製程非常繁複且精細,從光源、電路設計、數值孔徑、介質、光阻劑、 ...

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挽救摩爾定律:ASML 極紫外光(EUV)微影技術量產的開發歷程
挽救摩爾定律:ASML 極紫外光(EUV)微影技術量產的開發歷程

https://technews.tw

EUV 微影技術歷經20 餘年的實驗室研發,以及12 年的量產研發,至今成為半導體先進製程中最重要的生產工具。ASML 全球副總裁暨技術開發中心主任嚴濤南,正 ...

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極紫外光EUV微影是什麼?影片直擊台積電拚5奈米的關鍵技術 ...
極紫外光EUV微影是什麼?影片直擊台積電拚5奈米的關鍵技術 ...

https://www.bnext.com.tw

微影製程即是:用一台微影設備(Lithography),也稱作曝光機,也可以算是一種掃描儀器,將光透過光罩(Mask或Reticle),並利用ASML微影設備的光學系統將 ...

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極紫外光微影
極紫外光微影

https://www.nsrrc.org.tw

與現今的深紫外光(l=193nm)微影技術相較,極紫外光的波長(13.5nm)大幅縮短,能量更高,因此從光源、光罩、光阻、檢測、微影製程到元件可靠度均與目前的技術有極大的差異。

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極紫外光微影—延續摩爾定律的重要技術
極紫外光微影—延續摩爾定律的重要技術

https://www.iner.gov.tw

爾後隨製程線寬不斷微縮,光源波長也從i-line(365 nm 波長)到利用惰性氣體和鹵素分子結合激發的深紫外光(DUV)準分子雷射光源,如氟化氪(KrF)產生的248 nm波長和氟化氬(ArF) ...

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極紫外光微影製程
極紫外光微影製程

https://zh.wikipedia.org

極紫外光微影(英語:Extreme ultraviolet lithography,EUVL)又稱作超紫外線平版印刷術, 是一種使用極紫外光(EUV)波長的微影製程(lithography)技術,目前用於7奈米 ...