原子層沉積：ALD
ALD
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原子層沉積
https://zh.wikipedia.org
原子層沉積（英文：Atomic layer deposition）是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積（化學氣相沉積）有相似之處 ...
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原子層沉積之前驅物技術
https://www.materialsnet.com.t
... 傳統的化學氣相沉積(CVD)及物理氣相沉積(PVD)等技術漸漸無法滿足需求，而原子層沉積(ALD)具有高階梯覆蓋率(幾乎100%)、高厚度均勻性及原子級膜厚 ...
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原子層沉積系統(Atomic Layer Deposition
https://cptft.mcut.edu.tw
原子層沉積（Atomic Layer Deposition, ALD）係藉由表面獨特自我侷限反應來成長高階梯覆蓋與大面積均勻性之薄膜。可用於奈米級或原子級薄膜沉積，調控 ...
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原子層沉積系統原理及其應用
https://www.tiri.narl.org.tw
原子層沉積(atomic layer deposition, ALD) 技術. 是在1970 年代由芬蘭的Tuomo Suntola 博士和他. 的工作團隊(1) 為了製作高品質、大面積的電致發光.
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越薄越好，3D薄膜製程大挑戰：淺談原子層沈積技術
https://www.narlabs.org.tw
原子層沈積(Atomic Layer Deposition, ALD) 是一種可以將材料一層一層成長的薄膜製程技術，一般常見的ALD製程由四個步驟組成，以成長材料AB為例(圖一)，(a)首先將含有A ...