1nm以下:台積電跑在最前面!1nm以下製程「新突破」,IBM註定無法超越
台積電跑在最前面!1nm以下製程「新突破」,IBM註定無法超越
![1nm以下關鍵技術Intel研發2D晶片製程](https://i0.wp.com/api.multiavatar.com/1nm%E4%BB%A5%E4%B8%8B%E9%97%9C%E9%8D%B5%E6%8A%80%E8%A1%93Intel%E7%A0%94%E7%99%BC2D%E6%99%B6%E7%89%87%E8%A3%BD%E7%A8%8B+-+XFastest+News.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
1nm以下關鍵技術Intel研發2D晶片製程
https://news.xfastest.com
10nm製程以下製造難度加大,未來10年還要進入1nm製程以下節點,迫切需要更先進的技術。 於此領域,Intel率先在22nm製程進入FinFET電晶體時代,於20A、18A ...
![IBM與三星以VTFET設計實現1nm以下製程技術,但Intel已經 ...](https://i0.wp.com/api.multiavatar.com/IBM%E8%88%87%E4%B8%89%E6%98%9F%E4%BB%A5VTFET%E8%A8%AD%E8%A8%88%E5%AF%A6%E7%8F%BE1nm%E4%BB%A5%E4%B8%8B%E8%A3%BD%E7%A8%8B%E6%8A%80%E8%A1%93%EF%BC%8C%E4%BD%86Intel%E5%B7%B2%E7%B6%93+....png?apikey=viVnb6N20jclO8)
IBM與三星以VTFET設計實現1nm以下製程技術,但Intel已經 ...
https://m.eprice.com.tw
不過,台積電已經在今年5月宣布與台灣大學、麻省理工學院共同研究,透過鉍金屬特性突破1nm製程生產極限,讓製程技術下探至1nm以下。
![IMEC 發表以Chiplet 為基礎1 奈米以下製程](https://i0.wp.com/api.multiavatar.com/IMEC+%E7%99%BC%E8%A1%A8%E4%BB%A5Chiplet+%E7%82%BA%E5%9F%BA%E7%A4%8E1+%E5%A5%88%E7%B1%B3%E4%BB%A5%E4%B8%8B%E8%A3%BD%E7%A8%8B.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
IMEC 發表以Chiplet 為基礎1 奈米以下製程
https://technews.tw
比利時微電子研究中心(IMEC) 發表1 奈米以下製程藍圖,分享對應電晶體架構研究和開發計畫。 外媒報導,IMEC 製程藍圖顯示,FinFET 電晶體將於3 奈米達 ...
![MoS2電晶體閘極長度突破1nm以下](https://i0.wp.com/api.multiavatar.com/MoS2%E9%9B%BB%E6%99%B6%E9%AB%94%E9%96%98%E6%A5%B5%E9%95%B7%E5%BA%A6%E7%AA%81%E7%A0%B41nm%E4%BB%A5%E4%B8%8B-+%E9%9B%BB%E5%AD%90%E6%8A%80%E8%A1%93%E8%A8%AD%E8%A8%88.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
MoS2電晶體閘極長度突破1nm以下
https://www.edntaiwan.com
研究團隊在該期刊論文中介紹如何成功製備具有垂直結構的超小型MoS2電晶體,首次實現0.34nm的有效閘極長度。 此外,研究人員也介紹如何實現sub-1nm閘極長的 ...
![不要EUV光刻机,让1nm以下的芯片自己长出来](https://i0.wp.com/api.multiavatar.com/%E4%B8%8D%E8%A6%81EUV%E5%85%89%E5%88%BB%E6%9C%BA%EF%BC%8C%E8%AE%A91nm%E4%BB%A5%E4%B8%8B%E7%9A%84%E8%8A%AF%E7%89%87%E8%87%AA%E5%B7%B1%E9%95%BF%E5%87%BA%E6%9D%A5.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
不要EUV光刻机,让1nm以下的芯片自己长出来
https://mp.ofweek.com
目前芯片制造领域的技术,主要就是光刻技术。 而光刻技术下,光刻机的分辨率就决定了芯片的工艺,比如7nm以下的芯片,必须用到EUV光刻机;而7-45nm的 ...
![台積電1nm 以下製程取得重大突破,已發表於Nature](https://i0.wp.com/api.multiavatar.com/%E5%8F%B0%E7%A9%8D%E9%9B%BB1nm+%E4%BB%A5%E4%B8%8B%E8%A3%BD%E7%A8%8B%E5%8F%96%E5%BE%97%E9%87%8D%E5%A4%A7%E7%AA%81%E7%A0%B4%EF%BC%8C%E5%B7%B2%E7%99%BC%E8%A1%A8%E6%96%BCNature.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
台積電1nm 以下製程取得重大突破,已發表於Nature
https://news.xfastest.com
台積電於17日聯合台大、麻省理工宣佈,在1nm 以下晶片方面取得重大進展,研究成果已發表於Nature。 ... 該研究發現,利用半金屬鉍Bi 作為二維材料的接觸電極 ...
![將CFET用於1nm及以下節點製程](https://i0.wp.com/api.multiavatar.com/%E5%B0%87CFET%E7%94%A8%E6%96%BC1nm%E5%8F%8A%E4%BB%A5%E4%B8%8B%E7%AF%80%E9%BB%9E%E8%A3%BD%E7%A8%8B.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
將CFET用於1nm及以下節點製程
https://www.eettaiwan.com
互補式場效電晶體(CFET)在4T軌道單元設計中優於叉型片電晶體(forksheet transistor),使其成為1nm以下邏輯技術節點的極具吸引力的元件架構。
![摩爾定律將延續,imec 制定1 奈米以下製程技術與晶片設計 ...](https://i0.wp.com/api.multiavatar.com/%E6%91%A9%E7%88%BE%E5%AE%9A%E5%BE%8B%E5%B0%87%E5%BB%B6%E7%BA%8C%EF%BC%8Cimec+%E5%88%B6%E5%AE%9A1+%E5%A5%88%E7%B1%B3%E4%BB%A5%E4%B8%8B%E8%A3%BD%E7%A8%8B%E6%8A%80%E8%A1%93%E8%88%87%E6%99%B6%E7%89%87%E8%A8%AD%E8%A8%88+....png?apikey=viVnb6N20jclO8)
摩爾定律將延續,imec 制定1 奈米以下製程技術與晶片設計 ...
https://technews.tw
imec 就提出1 奈米以下至2 埃米(A2)半導體製程技術和晶片設計路徑,延續摩爾定律。 Luc van den Hove 提到幾代器件架構,從FinFET 器件到插板和原子通道 ...
![為1nm 以下工藝做準備,Intel 正研發2D TMD 材料技術](https://i0.wp.com/api.multiavatar.com/%E7%82%BA1nm+%E4%BB%A5%E4%B8%8B%E5%B7%A5%E8%97%9D%E5%81%9A%E6%BA%96%E5%82%99%EF%BC%8CIntel+%E6%AD%A3%E7%A0%94%E7%99%BC2D+TMD+%E6%9D%90%E6%96%99%E6%8A%80%E8%A1%93.png?apikey=viVnb6N20jclO8)
為1nm 以下工藝做準備,Intel 正研發2D TMD 材料技術
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按照摩爾定律,未來10年晶片要實現1nm 以下節點,這需要更加先進的技術才能實現。目前Intel 率先在22nm 節點進入FinFET 晶體管,而在20A、18A 節點 ...